CVD تېخنىكىسى خىمىيىلىك رېئاكسىيەنى ئاساس قىلىدۇ. رېئاكتورلارنىڭ گاز ھالىتى ۋە مەھسۇلاتلارنىڭ بىرىنىڭ ھالىتىدىكى رېئاكسىيە ئادەتتە CVD ئىنكاسى دەپ ئاتىلىدۇ ، شۇڭا ئۇنىڭ خىمىيىلىك رېئاكسىيە سىستېمىسى تۆۋەندىكى ئۈچ شەرتنى ھازىرلىشى كېرەك.
(1) چۆكۈش تېمپېراتۇرىسىدا ، رېئاكتورلار چوقۇم يېتەرلىك يۇقىرى پار بېسىمى بولۇشى كېرەك. ئەگەر رېئاكتورلارنىڭ ھەممىسى ئۆي تېمپېراتۇرىسىدا گازلىق بولسا ، چۆكۈش ئۈسكۈنىسى بىر قەدەر ئاددىي ، ئەگەر ئۆي تېمپېراتۇرىسىدا رېئاكتورلار ئىنتايىن كىچىك بولسا ، ئۇنى قىزىتىش كېرەك ، ئۇنى تۇراقسىز قىلىش كېرەك ، بەزىدە توشۇغۇچى گازىدىن پايدىلىنىپ ئۇنى رېئاكسىيە ئۆيىگە ئەكىرىشكە توغرا كېلىدۇ.
(2) رېئاكسىيە مەھسۇلاتلىرىنىڭ ئىچىدە ، قاتتىق ھالەتتىكى ئېھتىياجلىق ئامانەتتىن باشقا بارلىق ماددىلار چوقۇم گاز ھالەتتە بولۇشى كېرەك.
. چۆكمە تېمپېراتۇرىسىدىكى يەر ئاستى ماتېرىياللىرىنىڭ ھور بېسىمىمۇ يېتەرلىك تۆۋەن بولۇشى كېرەك.
چۆكمە رېئاكتور تۆۋەندىكى ئۈچ چوڭ ھالەتكە ئايرىلىدۇ.
(1) گازلىق ھالەت. ئۆي تېمپېراتۇرىسىدا گازلىق مەنبەلىك ماتېرىياللار ، مەسىلەن مېتان ، كاربون تۆت ئوكسىد ، ئاممىياك ، خىلور قاتارلىقلار خىمىيىلىك ھورنىڭ چۆكۈشىگە ئەڭ پايدىلىق ، ھەمدە ئېقىش سۈرئىتى ئاسان تەڭشىلىدۇ.
(2) سۇيۇقلۇق. ئۆي تېمپېراتۇرىسى ياكى سەل يۇقىرى تېمپېراتۇرىدا بەزى رېئاكسىيىلىك ماددىلار ، يۇقىرى پار بېسىمى بار ، مەسىلەن TiCI4 ، SiCl4 ، CH3SiCl3 قاتارلىقلار ، گازنى (H2 ، N2 ، Ar) سۇيۇقلۇق ياكى كۆپۈك ئىچىدىكى سۇيۇقلۇقنىڭ يۈزىدىن ئېقىشقا ، ئاندىن ماددىنىڭ تويۇنغان ھورلىرىنى ستۇدىيىگە توشۇشقا ئىشلىتىشكە بولىدۇ.
(3) قاتتىق ھالەت. ماس كېلىدىغان گاز ياكى سۇيۇقلۇق مەنبەسى بولمىغان ئەھۋال ئاستىدا ، پەقەت قاتتىق ھالەتتىكى يەم-خەشەكنىلا ئىشلەتكىلى بولىدۇ. نەچچە يۈز گرادۇسلۇق بەزى ئېلېمېنتلار ياكى ئۇلارنىڭ بىرىكمىلىرىنىڭ خېلى كۆپ ھور بېسىمى بار ، مەسىلەن TaCl5 ، Nbcl5 ، ZrCl4 قاتارلىقلار ، كىنو قەۋىتىگە قويۇلغان توشۇغۇچى گازىنى ئىشلىتىپ ستۇدىيىگە ئېلىپ بارغىلى بولىدۇ.
مەلۇم بىر تەبىئىي گاز ۋە مەنبەلىك گاز قاتتىق ياكى تەبىئىي سۇيۇقلۇق رېئاكسىيەسى ئارقىلىق تېخىمۇ كۆپ ئۇچرايدىغان ئەھۋال تىپى ، ستۇدىيىگە يەتكۈزۈشكە ماس كېلىدىغان گاز زاپچاسلىرى شەكىللىنىدۇ. مەسىلەن ، HCl گازى ۋە مېتال Ga رېئاكسىيە قىلىپ GaCl شەكلىدە ستۇدىيىگە توشۇلىدىغان گاز تەركىبى GaCl ھاسىل قىلىدۇ.
–بۇ ماقالە ئېلان قىلىندىۋاكۇئۇم سىرلاش ماشىنىسى ئىشلەپچىقارغۇچىگۇاڭدۇڭ جېنخۇا
يوللانغان ۋاقتى: 16-نويابىردىن 20-نويابىرغىچە