Вакуум каплау технологияләрендә,югары чагылдыручы (HR) һәм түбән чагылдыручы (AR) юка пленкалар җиһазлар конструкциясенә, процессны контрольдә тотуга һәм урнаштыру стратегияләренә турыдан-туры йогынты ясый торган аерым кыенлыклар һәм таләпләр бар. Ике төр каплау да пленка калынлыгын, стехиометрияне һәм сыну күрсәткечен төгәл контрольдә тотуга таянса да, аларның оптик функцияләре плазма үзенчәлекләренә, урнаштыру бердәмлегенә һәм in situ мониторинг системаларына төрле таләпләр куя.
Югары чагылышлы каплаулар, гадәттә, билгеле бер дулкын озынлыгы диапазоннарында чагылышны максимальләштерү өчен эшләнгән чиратлашып торучы югары һәм түбән сыну күрсәткече булган диэлектрик катламнардан яки металлик пленкалардан тора. Теләгән чагылышка ирешү өчен катлам калынлыгын нанометрлар тәртибендә төгәл контрольдә тоту һәм катлам буенча даими сыну күрсәткече кирәк. Нәтиҗәдә, HR каплаулары өчен кулланыла торган җиһазлар пленка калынлыгын контрольдә тотуның гаҗәеп дәрәҗәсен, плазманың тигез бүленешен һәм максатчан куллануның югары нәтиҗәлелеген тәэмин итәргә тиеш. Күп максатлы магнетрон сиптерү системалары яки электрон нурлы PVD линияләре еш кулланыла, алар минималь абсорбция белән тыгыз, түбән мәсамәле катламнарны урнаштыра ала. Югары куәт тыгызлыгы һәм тотрыклы утыру тизлеге кимчелекләрне, көчәнеш туплануын яки чагылышны бозачак микро-ярылуларны булдырмас өчен бик мөһим. Моннан тыш, күп утыру цикллары буенча катламны төгәл контрольдә тоту өчен оптик мониторинг яки кварц кристалл микробалансы (QCM) кебек алдынгы in situ мониторинг ысуллары интеграцияләнгән.
Киресенчә, түбән чагылышлы яки чагылышка каршы каплаулар контрольдә тотылган җимергеч комачаулау аша чагылышны минимальләштерүгә юнәлтелгән. AR каплаулары еш кына бик шома өслекләр, дәрәҗәле сыну күрсәткечләре һәм минималь чәчелү үзәкләрен таләп итә. AR каплаулары өчен җиһазлар өслекнең шомалыгын һәм бердәм сыну күрсәткечен тәэмин итү өчен субстрат әйләнүенә, газның тигез бүленешенә һәм түбән энергияле утыруга басым ясый. Реактив сиптерү яки ион ярдәмендә утырту стехиометрияне оптимальләштерү һәм калдык көчәнешне минимальләштерү өчен кулланылырга мөмкин. Камераның пычрануы һәм калдык газ дәрәҗәләре катгый контрольдә тотыла, чөнки кислород, дым яки углеводородларның аз гына кушылуы да оптик абсорбцияне яки чәчелүне арттыра ала, бу каплауның чагылышка каршы эшчәнлеген киметә.
Җиһазлар конструкциясендә HR һәм AR каплаулары арасындагы төп аерма утырту энергиясе, плазма бердәмлеге һәм процессны контрольдә тоту төгәллеге арасындагы баланста ята. HR каплау системалары максималь чагылдыруга ирешү өчен катлам калынлыгын төгәл күзәтү белән югары тыгызлыктагы, югары энергияле утыртуга өстенлек бирә, ә AR каплау системалары өслекнең шомалыгын һәм минималь таралуны саклап калу өчен аз зыянлы, югары дәрәҗәдә бердәм утыртуга өстенлек бирә. Моннан тыш, йөкләнеш сыйдырышлыгы, субстрат белән эшләү һәм җылылык белән идарә итү һәр каплау төренә туры китерелергә тиеш; югары чагылдыручы күп катламлы катламнар күбрәк кумулятив җылылык йөкләмәсен барлыкка китерә, актив суыту һәм көчәнеш белән идарә итүне таләп итә, ә AR каплаулары ультра чиста мохит һәм төгәл ион энергиясен контрольдә тотуны таләп итә.
Кыскасы, югары чагылдыручы һәм түбән чагылдыручы капламаларның уртак вакуум урнаштыру нигезләре булса да, аларның оптик функцияләре махсус җиһаз конфигурацияләрен, процессны контрольдә тоту стратегияләрен һәм мониторинг системаларын билгели. Бу аермаларны аңлау оптик көзгеләр, линзалар, фотоник җайланмалар һәм дисплей технологияләре кебек катлаулы кушымталарда юка пленкаларның оптик эшчәнлегенә, кабатланучанлыгына һәм озак вакытлы тотрыклылыгына ирешү өчен бик мөһим.
-Бу мәкалә бастырып чыгарылганвакуум каплау җиһазлары җитештерүчесеЧжэньхуа чүп-чар
Бастырып чыгару вакыты: 2026 елның 13 марты