Mga Elemento ng Proseso at Mga Mekanismo ng pagkilos na nakakaapekto sa kalidad ng mga thin film device (Bahagi 2)

3. Impluwensiya ng temperatura ng substrate

Ang temperatura ng substrate ay isa sa mga mahalagang kondisyon para sa paglaki ng lamad. Nagbibigay ito ng karagdagang suplemento ng enerhiya sa mga atomo o molekula ng lamad, at pangunahing nakakaapekto sa istraktura ng lamad, koepisyent ng agglutination, koepisyent ng pagpapalawak at density ng pagsasama-sama. Ang macroscopic reflection sa film refractive index, scattering, stress, adhesion, tigas at insolubility ay lubos na mag-iiba dahil sa iba't ibang temperatura ng substrate.

(1) Malamig na substrate: karaniwang ginagamit para sa pagsingaw ng metal film.

(2) Mga kalamangan ng mataas na temperatura:

① Ang natitirang mga molekula ng gas na naka-adsorb sa ibabaw ng substrate ay aalisin upang mapataas ang puwersang nagbubuklod sa pagitan ng substrate at ng mga nakadepositong molekula;

(2) I-promote ang pagbabago ng pisikal na adsorption sa chemisorption ng layer ng pelikula, pagbutihin ang pakikipag-ugnayan sa pagitan ng mga molecule, gawing masikip ang pelikula, dagdagan ang pagdirikit at pagbutihin ang mekanikal na lakas;

③ Bawasan ang pagkakaiba sa pagitan ng vapor molecular recrystallization temperature at ang substrate temperature, pagbutihin ang density ng film layer, dagdagan ang tigas ng film layer upang maalis ang panloob na stress.

(3) Ang kawalan ng masyadong mataas na temperatura: nagbabago ang istraktura ng layer ng pelikula o nabubulok ang materyal ng pelikula.

4. Mga epekto ng pambobomba ng ion

Bombardment pagkatapos ng kalupkop: pagbutihin ang pagsasama-sama ng density ng pelikula, pagbutihin ang kemikal na reaksyon, dagdagan ang refractive index ng oxide film, mekanikal na lakas at paglaban at pagdirikit. Tumataas ang threshold ng light damage.
5. Ang impluwensya ng materyal na substrate

(1) Ang iba't ibang koepisyent ng pagpapalawak ng materyal na substrate ay hahantong sa iba't ibang thermal stress ng pelikula;

(2) Ang magkakaibang pagkakaugnay ng kemikal ay makakaapekto sa pagdirikit at katatagan ng pelikula;

(3) Ang pagkamagaspang at mga depekto ng substrate ay ang pangunahing pinagmumulan ng pagkalat ng manipis na pelikula.
6. Epekto ng paglilinis ng substrate

Ang nalalabi ng dumi at detergent sa ibabaw ng substrate ay hahantong sa: (1) mahinang pagdirikit ng pelikula sa substrate; ② Ang scattering absorption ay tumataas, ang anti-laser na kakayahan ay mahina; ③ Hindi magandang pagganap ng paghahatid ng liwanag.

Ang kemikal na komposisyon (mga uri ng kadalisayan at karumihan), pisikal na estado (pulbos o bloke), at pretreatment (vacuum sintering o forging) ng materyal ng pelikula ay makakaapekto sa istraktura at pagganap ng pelikula.

8. Impluwensiya ng paraan ng pagsingaw

Ang paunang kinetic energy na ibinigay ng iba't ibang mga paraan ng pagsingaw upang mag-vaporize ng mga molecule at atom ay ibang-iba, na nagreresulta sa isang malaking pagkakaiba sa istraktura ng pelikula, na ipinakita bilang pagkakaiba sa refractive index, scattering at adhesion.

9. Impluwensiya ng vapor incidence Anggulo

Ang Anggulo ng vapor incidence ay tumutukoy sa Anggulo sa pagitan ng direksyon ng vapor molecular radiation at normal na ibabaw ng coated substrate, na nakakaapekto sa mga katangian ng paglago at densidad ng pagsasama-sama ng pelikula, at may malaking impluwensya sa refractive index at scattering na katangian ng pelikula. Upang makakuha ng mga de-kalidad na pelikula, kinakailangan na kontrolin ang Anggulo ng paglabas ng tao ng mga molekula ng singaw ng materyal ng pelikula, na sa pangkalahatan ay dapat na limitado sa 30°.

10. Mga epekto ng baking treatment

Ang paggamot sa init ng pelikula sa atmospera ay nakakatulong sa pagpapalabas ng stress at ang thermal migration ng mga molekula ng ambient gas at mga molekula ng pelikula, at maaaring gawin ang istraktura ng recombination ng pelikula, kaya malaki ang impluwensya nito sa refractive index, stress at tigas ng pelikula.