Utangulizi wa uwekaji wa mvuke wa utupu, sputtering na mipako ya ioni

Mipako ya utupu ni pamoja na uwekaji wa mvuke wa utupu, mipako ya sputtering na mipako ya ioni, ambayo yote hutumiwa kuweka filamu mbalimbali za chuma na zisizo za chuma kwenye uso wa sehemu za plastiki kwa kunereka au sputtering chini ya hali ya utupu, ambayo inaweza kupata mipako nyembamba sana ya uso na faida bora ya kujitoa kwa haraka, lakini bei inaweza kutumika kwa bei ya juu, na pia inaweza kutumika kwa aina ya juu ya chuma. mipako ya kazi ya bidhaa za daraja la juu.
Uwekaji wa mvuke wa utupu ni njia ya kupokanzwa chuma chini ya utupu wa juu, na kuifanya kuyeyuka, kuyeyuka, na kuunda filamu nyembamba ya chuma kwenye uso wa sampuli baada ya kupoa, na unene wa 0.8-1.2 um. Inajaza sehemu ndogo za concave na mbonyeo juu ya uso wa bidhaa iliyoundwa ili kupata uso unaofanana na kioo. Wakati utuaji wa mvuke wa utupu unafanywa ama kupata athari ya kioo ya kutafakari au kufuta chuma na mshikamano wa chini, uso wa chini lazima uwekwe.

Kunyunyiza kwa kawaida hurejelea kunyunyiza kwa magnetron, ambayo ni njia ya kasi ya chini ya joto la chini. Mchakato unahitaji utupu wa takriban 1 × 10-3 Torr, ambayo ni 1.3 × 10-3Pa hali ya utupu iliyojaa argon ya gesi ya ajizi (Ar), na kati ya substrate ya plastiki (anodi) na shabaha ya chuma (cathode) pamoja na sasa ya juu-voltage ya moja kwa moja, kwa sababu ya msisimko wa elektroni wa gesi ya ajizi inayozalishwa na plasma ya mlipuko, kutolewa kwa plasma inayowaka. ya shabaha ya chuma na kuziweka kwenye substrate ya plastiki. Wengi wa mipako ya jumla ya chuma hutumia sputtering ya DC, wakati nyenzo za kauri zisizo za conductive hutumia RF AC sputtering.

Mipako ya ioni ni njia ambayo utokaji wa gesi hutumiwa kwa kiasi cha ioni ya gesi au dutu iliyoyeyuka chini ya hali ya utupu, na dutu iliyoyeyuka au viitikio vyake huwekwa kwenye substrate kwa milipuko ya ioni za gesi au ioni za dutu inayovukizwa. Hizi ni pamoja na mipako ya ioni ya magnetron, mipako ya ioni tendaji, mipako ya ioni ya kutokwa kwa cathode (mbinu ya uwekaji wa mvuke ya cathode), na mipako ya ioni ya arc nyingi (mipako ya arc ion ya cathode).

Wima-upande mbili magnetron sputtering kuendelea mipako katika mstari
Utumikaji mpana, unaweza kutumika kwa bidhaa za kielektroniki kama vile safu ya kinga ya ganda la daftari la EMI, bidhaa tambarare, na hata bidhaa zote za vikombe vya taa ndani ya vipimo vya urefu fulani zinaweza kuzalishwa. Uwezo mkubwa wa kupakia, kubana kwa kompakt na kubana kwa kasi kwa vikombe vya mwanga vya koni kwa mipako ya pande mbili, ambayo inaweza kuwa na uwezo mkubwa wa upakiaji. Ubora thabiti, msimamo mzuri wa safu ya filamu kutoka kwa kundi hadi kundi. Kiwango cha juu cha otomatiki na gharama ya chini ya kazi.

- Nakala hii imetolewa namtengenezaji wa mashine ya mipako ya utupuGuangdong Zhenhua