Teknolojia ya CVD inategemea mmenyuko wa kemikali. Mwitikio ambapo viitikio viko katika hali ya gesi na moja ya bidhaa iko katika hali ngumu kwa kawaida hujulikana kama mmenyuko wa CVD, kwa hivyo mfumo wake wa mmenyuko wa kemikali lazima utimize masharti matatu yafuatayo.
(1) Katika halijoto ya utuaji, viitikio lazima viwe na shinikizo la juu la kutosha la mvuke. Ikiwa viitikio vyote ni vya gesi kwenye joto la kawaida, kifaa cha uwekaji ni rahisi kiasi, ikiwa viitikio ni tete kwenye joto la kawaida ni ndogo sana, inahitaji kuwashwa moto ili kuifanya kuwa tete, na wakati mwingine inahitaji kutumia gesi ya carrier ili kuileta kwenye chumba cha majibu.
(2) Kati ya bidhaa za mmenyuko, dutu zote lazima ziwe katika hali ya gesi isipokuwa kwa amana inayotakiwa, ambayo iko katika hali ngumu.
(3) Shinikizo la mvuke la filamu iliyowekwa linapaswa kuwa chini vya kutosha ili kuhakikisha kuwa filamu iliyowekwa imeshikanishwa kwa uthabiti kwenye substrate yenye halijoto fulani ya uwekaji wakati wa mmenyuko wa uwekaji. Shinikizo la mvuke wa nyenzo za substrate kwenye joto la utuaji lazima pia liwe chini vya kutosha.
Viitikio vya utuaji vimegawanywa katika hali tatu kuu zifuatazo.
(1) Hali ya gesi. Nyenzo za chanzo ambazo ni gesi kwenye joto la kawaida, kama vile methane, dioksidi kaboni, amonia, klorini, n.k., ambazo zinafaa zaidi kwa uwekaji wa mvuke wa kemikali, na ambayo kiwango cha mtiririko hudhibitiwa kwa urahisi.
(2) Kioevu. Baadhi ya dutu za majibu kwenye joto la kawaida au joto la juu kidogo, kuna shinikizo la mvuke wa juu, kama vile TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3, nk, inaweza kutumika kubeba gesi (kama vile H2, N2, Ar) inapita kwenye uso wa kioevu au kioevu ndani ya Bubble, na kisha kubeba mivuke iliyojaa ya dutu ndani ya studio.
(3) Hali thabiti. Kwa kukosekana kwa chanzo kinachofaa cha gesi au kioevu, malisho ya hali ngumu tu yanaweza kutumika. Baadhi ya vipengele au viambajengo vyake katika mamia ya digrii vina shinikizo kubwa la mvuke, kama vile TaCl5, Nbcl5, ZrCl4, n.k., vinaweza kubebwa hadi studio kwa kutumia gesi ya mtoa huduma iliyowekwa kwenye safu ya filamu.
zaidi ya kawaida hali ya aina kwa njia ya gesi fulani na chanzo nyenzo gesi-imara au gesi-kioevu mmenyuko, malezi ya vipengele sahihi gesi kwa utoaji studio. Kwa mfano, gesi ya HCl na Ga ya chuma huguswa na kuunda sehemu ya gesi ya GaCl, ambayo husafirishwa hadi studio kwa njia ya GaCl.
- Nakala hii imetolewa namtengenezaji wa mashine ya mipako ya utupuGuangdong Zhenhua
Muda wa kutuma: Nov-16-2023