ගුවැන්ඩොං ෂෙන්හුවා ටෙක්නොලොජි සමාගම, සීමාසහිත වෙත සාදරයෙන් පිළිගනිමු.
කර්මාන්ත පුවත්
-
ආලේපිත වීදුරු කර්මාන්තයේ දෘශ්ය තුනී පටල යෙදීම
CR39, PC (පොලිකාබනේට්), 1.53 ට්රයිවෙක්ස්156, මධ්යම වර්තන දර්ශක ප්ලාස්ටික්, වීදුරු ආදී වීදුරු සහ කාච සඳහා උපස්ථර වර්ග බොහොමයක් තිබේ. නිවැරදි කිරීමේ කාච සඳහා, දුම්මල සහ වීදුරු කාච දෙකෙහිම සම්ප්රේෂණය 91% ක් පමණ වන අතර, ආලෝකයෙන් කොටසක් s දෙකෙන් පරාවර්තනය වේ...තවත් කියවන්න -
රික්ත ආලේපන යන්ත්රයේ විශේෂාංග
1. රික්ත ආලේපන පටලය ඉතා තුනී වේ (සාමාන්යයෙන් 0.01-0.1um)| 2. රික්ත ආලේපනය ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA වැනි බොහෝ ප්ලාස්ටික් සඳහා භාවිතා කළ හැක. 3. පටල සෑදීමේ උෂ්ණත්වය අඩුය. යකඩ සහ වානේ කර්මාන්තයේ, උණුසුම් ගැල්වනයිස් කිරීමේ ආලේපන උෂ්ණත්වය සාමාන්යයෙන් 400 ℃ a අතර වේ...තවත් කියවන්න -
සූර්ය ප්රකාශ වෝල්ටීයතා තුනී පටල තාක්ෂණය පිළිබඳ හැඳින්වීම
1863 දී යුරෝපයේ ප්රකාශ වෝල්ටීයතා ආචරණය සොයා ගැනීමෙන් පසුව, එක්සත් ජනපදය 1883 දී (Se) සහිත පළමු ප්රකාශ වෝල්ටීයතා සෛලය සාදන ලදී. මුල් දිනවල, ප්රකාශ වෝල්ටීයතා සෛල ප්රධාන වශයෙන් අභ්යවකාශ, හමුදා සහ අනෙකුත් ක්ෂේත්රවල භාවිතා කරන ලදී. පසුගිය වසර 20 තුළ, ප්රකාශ වෝල්ටීයතා පිරිවැයේ තියුණු පහත වැටීමක්...තවත් කියවන්න -
ඉසින ආලේපන යන්ත්රයේ ක්රියාවලි ප්රවාහය
1. බෝම්බ හෙලීමේ පිරිසිදු කිරීමේ උපස්ථරය 1.1) ඉසින ආලේපන යන්ත්රය උපස්ථරය පිරිසිදු කිරීම සඳහා දිලිසෙන විසර්ජනය භාවිතා කරයි. එනම්, කුටියට ආගන් වායුව ආරෝපණය කරන්න, විසර්ජන වෝල්ටීයතාවය 1000V පමණ වේ, බල සැපයුම ක්රියාත්මක කිරීමෙන් පසු, දිලිසෙන විසර්ජනයක් ජනනය වන අතර, උපස්ථරය පිරිසිදු කරනු ලබන්නේ ...තවත් කියවන්න -
ජංගම දුරකථන නිෂ්පාදනවල දෘශ්ය පටල යෙදීම
ජංගම දුරකථන වැනි පාරිභෝගික ඉලෙක්ට්රොනික නිෂ්පාදනවල දෘශ්ය තුනී පටල යෙදීම සාම්ප්රදායික කැමරා කාච වලින් කැමරා කාච, කාච ආරක්ෂක, අධෝරක්ත කැපුම් පෙරහන් (IR-CUT) සහ ජංගම දුරකථන බැටරි ආවරණ මත NCVM ආලේපනය වැනි විවිධාංගීකරණය වූ දිශාවකට මාරු වී ඇත. කැමරා වේගය...තවත් කියවන්න -
CVD ආලේපන උපකරණවල ලක්ෂණ
CVD ආලේපන තාක්ෂණයට පහත ලක්ෂණ ඇත: 1. CVD උපකරණවල ක්රියාවලි ක්රියාකාරිත්වය සාපේක්ෂව සරල සහ නම්යශීලී වන අතර, එයට විවිධ අනුපාතවලින් තනි හෝ සංයුක්ත පටල සහ මිශ්ර ලෝහ පටල සකස් කළ හැකිය; 2. CVD ආලේපනයට පුළුල් පරාසයක යෙදුම් ඇති අතර, පෙර...තවත් කියවන්න -
රික්තක ආලේපන යන්ත්ර ක්රියාවලීන් මොනවාද? ක්රියාකාරී මූලධර්මය කුමක්ද?
රික්තක ආලේපන යන්ත්ර ක්රියාවලිය පහත පරිදි බෙදා ඇත: රික්තක වාෂ්පීකරණ ආලේපනය, රික්තක ඉසින ආලේපනය සහ රික්තක අයන ආලේපනය. 1、රික්තක වාෂ්පීකරණ ආලේපනය රික්තක තත්ත්වය යටතේ, ලෝහ, ලෝහ මිශ්ර ලෝහ වැනි ද්රව්ය වාෂ්පීකරණය කර, උපස්ථර සර්ෆ් මත තැන්පත් කරන්න...තවත් කියවන්න -
රික්තක යන්ත්රය කුමක් සඳහාද?
1, රික්ත ආලේපන ක්රියාවලිය යනු කුමක්ද? කාර්යය කුමක්ද? ඊනියා රික්ත ආලේපන ක්රියාවලිය රික්තක පරිසරයක වාෂ්පීකරණය සහ ඉසීම භාවිතා කර පටල ද්රව්ය අංශු විමෝචනය කරයි，ආලේපන තට්ටුවක් සෑදීම සඳහා ලෝහ, වීදුරු, පිඟන් මැටි, අර්ධ සන්නායක සහ ප්ලාස්ටික් කොටස් මත තැන්පත් කර ඇත, සැරසිලි සඳහා...තවත් කියවන්න -
රික්ත ආලේපන උපකරණ සඳහා පාරිසරික අවශ්යතා
රික්තක ආලේපන උපකරණ රික්තක තත්වයන් යටතේ ක්රියා කරන බැවින්, උපකරණ පරිසරය සඳහා රික්තක අවශ්යතා සපුරාලිය යුතුය. මගේ රටේ සකස් කරන ලද විවිධ වර්ගයේ රික්තක ආලේපන උපකරණ සඳහා කර්මාන්ත ප්රමිතීන් (රික්තක ආලේපන උපකරණ සඳහා සාමාන්ය තාක්ෂණික කොන්දේසි ඇතුළුව,...තවත් කියවන්න -
අයන ආලේපනයේ ලක්ෂණ සහ භාවිතයන්
චිත්රපට වර්ගය චිත්රපට ද්රව්ය උපස්ථරය චිත්රපට ලක්ෂණ සහ යෙදුම ලෝහ පටලය CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt වානේ, මෘදු වානේ ටයිටේනියම් මිශ්ර ලෝහය, ඉහළ කාබන් වානේ, මෘදු වානේ ටයිටේනියම් මිශ්ර ලෝහය දෘඩ වීදුරු ප්ලාස්ටික් නිකල්, ඉන්කනල් වානේ, මල නොබැඳෙන වානේ සිලිකන් ඇඳුම් විරෝධී ...තවත් කියවන්න -
රික්ත අයන ආලේපනය සහ එහි වර්ගීකරණය
රික්ත අයන ආලේපනය (කෙටියෙන් අයන ආලේපනය) යනු 1970 ගණන්වල වේගයෙන් සංවර්ධනය කරන ලද නව මතුපිට ප්රතිකාර තාක්ෂණයකි, එය 1963 දී එක්සත් ජනපදයේ සොම්ඩියා සමාගමේ ඩීඑම් මැටොක්ස් විසින් යෝජනා කරන ලදී. එය වාෂ්පීකරණයට හෝ ස්පුටරින් කිරීමට වාෂ්පීකරණ ප්රභවයක් හෝ ඉසින ඉලක්කයක් භාවිතා කිරීමේ ක්රියාවලියට යොමු වේ...තවත් කියවන්න -
බහු දෘශ්ය පටල ආලේප කිරීම සඳහා දෘශ්ය ආලේපන යන්ත්රය භාවිතා කළ හැකිය.
① ප්රති-පරාවර්තන පටලය. උදාහරණයක් ලෙස, කැමරා, ස්ලයිඩ් ප්රක්ෂේපක, ප්රක්ෂේපක, චිත්රපට ප්රක්ෂේපක, දුරේක්ෂ, දර්ශන කණ්ණාඩි සහ විවිධ දෘශ්ය උපකරණවල කාච සහ ප්රිස්ම මත ආලේප කරන ලද තනි ස්ථර MgF පටල සහ SiOFrO2, AlO, ... වලින් සමන්විත ද්විත්ව ස්ථර හෝ බහු ස්ථර පුළුල් පරාවර්තන ප්රති-පරාවර්තන පටල.තවත් කියවන්න -
ඉසින ආලේපන පටලවල ලක්ෂණ
① පටල ඝණකම හොඳින් පාලනය කිරීමේ හැකියාව සහ පුනරාවර්තනය කිරීමේ හැකියාව කලින් තීරණය කළ අගයකින් පටල ඝණකම පාලනය කළ හැකිද යන්න පටල ඝණකම පාලනය කිරීමේ හැකියාව ලෙස හැඳින්වේ. අවශ්ය පටල ඝණකම බොහෝ වාරයක් පුනරාවර්තනය කළ හැකි අතර එය පටල ඝණකම පුනරාවර්තනය කිරීමේ හැකියාව ලෙස හැඳින්වේ. විසර්ජනය නිසා...තවත් කියවන්න -
රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ (CVD) තාක්ෂණය පිළිබඳ කෙටි හැඳින්වීමක්
රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ (CVD) තාක්ෂණය යනු තාපනය, ප්ලාස්මා වැඩි දියුණු කිරීම, ඡායාරූප සහාය සහ වෙනත් ක්රම භාවිතා කරමින් වායුමය ද්රව්ය සාමාන්ය හෝ අඩු පීඩනය යටතේ රසායනික ප්රතික්රියා හරහා උපස්ථර මතුපිට ඝන පටල නිපදවීමට භාවිතා කරන පටල සෑදීමේ තාක්ෂණයකි. සාමාන්යයෙන්, ප්රතික්රියාව...තවත් කියවන්න -
රික්ත වාෂ්පීකරණ ආලේපනයේ ක්රියාකාරිත්වයට බලපාන සාධක
1. වාෂ්පීකරණ අනුපාතය වාෂ්පීකරණය වූ ආලේපනයේ ගුණාංග කෙරෙහි බලපානු ඇත. වාෂ්පීකරණ අනුපාතය තැන්පත් කරන ලද පටලයට විශාල බලපෑමක් ඇති කරයි. අඩු තැන්පත් වීමේ අනුපාතයකින් සාදන ලද ආලේපන ව්යුහය ලිහිල් වන අතර විශාල අංශු තැන්පත් වීමට පහසු බැවින්, ඉහළ වාෂ්පීකරණයක් තෝරා ගැනීම ඉතා ආරක්ෂිත වේ ...තවත් කියවන්න
