1. Alvo de cromo. O cromo, como material de filme de pulverização catódica, não só é fácil de combinar com o substrato, apresentando alta adesão, como também, juntamente com o cromo e o óxido, gera um filme de CrO3, com melhores propriedades mecânicas, resistência a ácidos e estabilidade térmica. Além disso, o cromo em estado de oxidação incompleta também pode gerar um filme de absorção fraca. Há relatos de que o cromo com pureza superior a 98% pode ser transformado em alvos retangulares ou cilíndricos de cromo. Além disso, a tecnologia de sinterização para a produção de alvos retangulares de cromo também está bem desenvolvida.
2. Preparação de alvo de ITO O material de alvo de filme de ITO usado no passado, geralmente usava materiais de liga In-Sn para fazer alvos, e então no processo de revestimento através do oxigênio, e então gera o filme de ITO. Este método é difícil de controlar o gás de reação e tem baixa reprodutibilidade. Assim, nos últimos anos foi substituído pelo alvo de sinterização de ITO. O processo típico do material de alvo de ITO é de acordo com a relação de qualidade, através do método de moagem de bolas será totalmente misturado, e então adicione o agente composto de pó orgânico especial será misturado na forma necessária, e através da compactação pressurizada, e então a placa no ar a 100 ℃ / h taxa de aquecimento para 1600 ℃ após 1h, e então taxa de resfriamento de 100 ℃ / h até a temperatura ambiente e feito. Taxa de resfriamento de 100 ℃ / h até a temperatura ambiente e feito. Ao fazer alvos, o plano do alvo é necessário para ser polido, de modo a evitar pontos quentes no processo de pulverização catódica.
3. Alvos de ouro e ligas de ouro, com brilho encantador e boa resistência à corrosão, são materiais ideais para revestimentos decorativos de superfícies. O método de revestimento úmido utilizado no passado apresenta baixa adesão de película, baixa resistência, baixa resistência à abrasão e problemas de poluição por líquidos residuais, sendo inevitavelmente substituído pelo revestimento a seco. Os tipos de alvo incluem alvos planos, alvos compostos locais, alvos tubulares, alvos tubulares compostos locais, entre outros. Seu método de preparação é principalmente por meio da dosagem de fusão a vácuo, decapagem, laminação a frio, recozimento, laminação fina, cisalhamento, limpeza de superfície, laminação a frio de pacotes compostos e uma série de processos de preparação. Esta tecnologia foi aprovada na China e obteve bons resultados.
4. Alvo de material magnético. O alvo de material magnético é usado principalmente para galvanoplastia de cabeças magnéticas de filmes finos, discos de filme fino e outros dispositivos magnéticos de filme fino. Devido ao uso do método de pulverização catódica de magnetron CC para materiais magnéticos, a pulverização catódica de magnetron é mais difícil. Portanto, alvos de TC com o chamado "tipo de alvo de lacuna" são usados para a preparação de tais alvos. O princípio é cortar muitas lacunas na superfície do material alvo para que o sistema magnético possa ser gerado na superfície do alvo de material magnético, o campo magnético de vazamento, de modo que a superfície do alvo possa formar um campo magnético ortogonal e atingir o objetivo do filme de pulverização catódica de magnetron. Diz-se que a espessura deste material alvo pode chegar a 20 mm.
–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento a vácuoGuangdongZhenhua
Horário da publicação: 24/01/2024