۱. د کرومیم هدف کرومیم د سپټرینګ فلم موادو په توګه نه یوازې د لوړ چپکونکي سبسټریټ سره یوځای کول اسانه دي، بلکه کرومیم او اکسایډ هم د CrO3 فلم تولید لپاره، د هغې میخانیکي ملکیتونه، د تیزاب مقاومت، حرارتي ثبات غوره دی. سربیره پردې، په نامکمل اکسیډیشن حالت کې کرومیم کولی شي د جذب ضعیف فلم هم رامینځته کړي. د 98٪ څخه ډیر پاکوالي سره کرومیم د مستطیل هدفونو یا سلنډر کرومیم هدفونو کې جوړ شوی راپور شوی. سربیره پردې، د کرومیم مستطیل هدف جوړولو لپاره د سینټرینګ میتود کارولو ټیکنالوژي هم پخه شوې ده.
2. د ITO هدف د ITO فلم هدف موادو چمتو کول چې په تیرو وختونو کې کارول کیده، معمولا د هدفونو جوړولو لپاره د In-Sn الیاژ موادو څخه کار اخیستل کیده، او بیا د اکسیجن له لارې د کوټینګ پروسې کې، او بیا د ITO فلم تولیدوي. دا طریقه د عکس العمل ګاز کنټرول کول ستونزمن دي او ضعیف تولید وړتیا لري. پدې توګه، په وروستیو کلونو کې د ITO سینټرینګ هدف لخوا ځای په ځای شوی. د ITO هدف موادو عادي پروسه د کیفیت تناسب سره سم ده، د بال ملنګ میتود له لارې به په بشپړ ډول مخلوط شي، او بیا د ځانګړي عضوي پوډر مرکب اجنټ اضافه کول به اړین شکل ته مخلوط شي، او د فشار شوي کمپیکشن له لارې، او بیا پلیټ په هوا کې په 100 ℃ / h د تودوخې نرخ 1600 ℃ ته د 1h ساتلو وروسته، او بیا د 100 ℃ / h د یخولو کچه د خونې تودوخې ته ښکته او جوړ شوی. د یخولو کچه 100 ℃ / h د خونې تودوخې ته ښکته او جوړ شوی. کله چې هدفونه جوړیږي، د هدف الوتکه باید پالش شي، ترڅو د تودوخی په پروسه کې د ګرمو ځایونو څخه مخنیوی وشي.
۳. د سرو زرو او سرو زرو الیاژ هدف سره زر، ځلیدونکی زړه راښکونکی، د ښه زنګ مقاومت سره، د سطحې د پوښ کولو لپاره مثالی مواد دي. د لوند پلیټ کولو طریقه چې په تیرو فلم چپکولو کې کارول کیده کوچنۍ، ټیټ ځواک، ضعیف د سوځیدنې مقاومت، او همدارنګه د فاضله مایع ککړتیا ستونزې دي، له همدې امله، په ناڅاپي ډول د وچ پلیټ کولو لخوا بدلیږي. د هدف ډول د الوتکې هدف، محلي مرکب هدف، ټیوبلر هدف، محلي مرکب ټیوبلر هدف او داسې نور لري. د دې چمتو کولو طریقه په عمده توګه د ویکیوم خټکي، اچار کولو، سړه رولینګ، انیلینګ، ښه رولینګ، شین کولو، سطحې پاکولو، سړه رولینګ مرکب کڅوړې او د پروسې چمتو کولو په څیر د پروسو لړۍ له لارې ده. دا ټیکنالوژي په چین کې ارزونه تیره کړې، د ښو پایلو کارول.
۴. د مقناطیسي موادو هدف د مقناطیسي موادو هدف په عمده توګه د پتلي فلم مقناطیسي سرونو، پتلي فلم ډیسکونو او نورو مقناطیسي پتلي فلم وسیلو د پلیټ کولو لپاره کارول کیږي. د مقناطیسي موادو لپاره د DC میګنیټرون سپټرینګ میتود کارولو له امله د مقناطیسي سپټرینګ ډیر ستونزمن دی. له همدې امله، د CT هدفونه چې د "خالي هدف ډول" په نوم یادیږي د داسې اهدافو چمتو کولو لپاره کارول کیږي. اصل دا دی چې د هدف موادو په سطحه ډیری تشې پرې کړئ ترڅو مقناطیسي سیسټم د مقناطیسي موادو هدف لیک مقناطیسي ساحې په سطحه رامینځته شي، ترڅو د هدف سطحه د اورتوګونل مقناطیسي ساحه جوړه کړي او د مقناطیسي سپټرینګ فلم هدف ترلاسه کړي. ویل کیږي چې د دې هدف موادو ضخامت 20 ملي میتر ته رسیدلی شي.
- دا مقاله د لخوا خپره شوې دهد ویکیوم کوټینګ ماشین جوړونکیګوانګډونګ ژینوا
د پوسټ وخت: جنوري-۲۴-۲۰۲۴