د پروسې عناصر او د عمل میکانیزمونه چې د پتلي فلم وسیلو کیفیت اغیزه کوي (دوهمه برخه)

۳. د سبسټریټ د تودوخې اغیز

د سبسټریټ تودوخه د غشا د ودې لپاره یو له مهمو شرایطو څخه دی. دا د غشا اتومونو یا مالیکولونو ته اضافي انرژي چمتو کوي، او په عمده توګه د غشا جوړښت، د راټولولو ضخامت، د پراختیا ضخامت او د راټولولو کثافت اغیزه کوي. د فلم انعکاس شاخص کې میکروسکوپیک انعکاس، توزیع، فشار، چپکونکی، سختۍ او نه حل کیدونکی به د مختلف سبسټریټ تودوخې له امله خورا توپیر ولري.

(۱) سړه سبسټریټ: عموما د فلزي فلم د تبخیر لپاره کارول کیږي.

(۲) د لوړې تودوخې ګټې:

① د سبسټریټ په سطحه کې جذب شوي پاتې ګاز مالیکولونه لرې کیږي ترڅو د سبسټریټ او زیرمه شوي مالیکولونو ترمنځ د تړلو ځواک زیات کړي؛

(۲) د فلم طبقې د فزیکي جذب کیمیاوی جذب ته بدلون ورکول، د مالیکولونو ترمنځ تعامل ته وده ورکول، فلم کلک کول، چپک کول زیاتول او میخانیکي ځواک ښه کول؛

③ د بخار مالیکولر بیا کریسټال کولو تودوخې او سبسټریټ تودوخې ترمنځ توپیر کم کړئ، د فلم طبقې کثافت ښه کړئ، د داخلي فشار له منځه وړلو لپاره د فلم طبقې سختۍ زیاته کړئ.

(۳) د ډېرې لوړې تودوخې زیان: د فلم طبقې جوړښت بدلیږي یا د فلم مواد تخریب کیږي.

۴. د ایون بمبارۍ اغیزې

د پلیټ کولو وروسته بمباري: د فلم د راټولولو کثافت ښه کول، کیمیاوي تعامل ته وده ورکول، د اکسایډ فلم د انعکاس شاخص زیاتول، میخانیکي ځواک او مقاومت او چپک کول. د رڼا د زیان حد زیاتیږي.
۵. د سبسټریټ موادو نفوذ

(۱) د سبسټریټ موادو مختلف توسعې ضریب به د فلم مختلف حرارتي فشار رامینځته کړي؛

(۲) مختلف کیمیاوي تړاو به د فلم په چپکولو او ټینګښت اغیزه وکړي؛

(۳) د سبسټریټ ناهمواروالی او نیمګړتیاوې د پتلي فلم د خپریدو اصلي سرچینې دي.
۶. د سبسټریټ پاکولو اغیز

د سبسټریټ په سطحه د خاورې او صابون پاتې شوني به د دې لامل شي: (1) د سبسټریټ سره د فلم ضعیف چپکیدل؛ ② د توزیع جذب زیاتیږي، د لیزر ضد وړتیا ضعیفه وي؛ ③ د رڼا د لیږد ضعیف فعالیت.

د فلم موادو کیمیاوي جوړښت (د پاکوالي او ناپاکۍ ډولونه)، فزیکي حالت (پوډر یا بلاک)، او مخکې له مخکې درملنه (د ویکیوم سینټرینګ یا جعل کول) به د فلم جوړښت او فعالیت اغیزه وکړي.

۸. د تبخیر طریقې اغیز

د مالیکولونو او اتومونو د بخار کولو لپاره د مختلفو تبخیر میتودونو لخوا چمتو شوې لومړنۍ حرکي انرژي خورا توپیر لري، چې په پایله کې د فلم په جوړښت کې لوی توپیر رامینځته کیږي، کوم چې د انعکاس شاخص، توزیع او چپکولو کې د توپیر په توګه څرګندیږي.

۹. د بخار د پېښېدو زاویه

د بخار د پیښې زاویه د بخار د مالیکولر وړانګو سمت او د پوښل شوي سبسټریټ د سطحې نورمال ترمنځ زاویه ته اشاره کوي، کوم چې د فلم د ودې ځانګړتیاوې او د راټولولو کثافت اغیزه کوي، او د فلم د انعکاس شاخص او خپریدو ځانګړتیاو باندې لوی اغیزه لري. د لوړ کیفیت فلمونو ترلاسه کولو لپاره، دا اړینه ده چې د فلم موادو د بخار مالیکولونو د انسان د اخراج زاویه کنټرول شي، کوم چې عموما باید تر 30 درجو پورې محدود وي.

۱۰. د پخولو درملنې اغیزې

په اتموسفیر کې د فلم د تودوخې درملنه د فشار خوشې کولو او د محیطي ګاز مالیکولونو او د فلم مالیکولونو د تودوخې مهاجرت لپاره مناسبه ده، او کولی شي د فلم بیا ترکیب جوړښت رامینځته کړي، نو دا د فلم د انعکاس شاخص، فشار او سختۍ باندې لوی نفوذ لري.