1. Urządzenie do czyszczenia plazmowego może zapobiec wytwarzaniu przez użytkowników szkodliwych gazów dla ludzkiego ciała podczas czyszczenia na mokro i uniknąć prania rzeczy.
2. Po czyszczeniu plazmowym obiekt czyszczony jest suszony i może zostać przekazany do następnego procesu bez dalszego suszenia, co pozwala na osiągnięcie wydajności przetwarzania całej linii produkcyjnej;
3. Czyszczenie plazmowe może znacznie poprawić wydajność czyszczenia. Cały proces czyszczenia można ukończyć w ciągu kilku minut, więc ma cechy wysokiej wydajności;
4. Stosuj czyszczenie plazmowe, aby uniknąć transportu, przechowywania, rozładowywania i innych czynności związanych z obróbką płynu czyszczącego, dzięki czemu miejsce produkcji pozostanie czyste i higieniczne;
5. Po oczyszczeniu i dekontaminacji należy również poprawić właściwości powierzchniowe samego materiału. Na przykład w wielu zastosowaniach bardzo ważne jest poprawienie zwilżalności powierzchni i przyczepności folii.
Czyszczenie plazmowe może być stosowane do wszelkiego rodzaju materiałów, metali, półprzewodników, tlenków lub materiałów polimerowych (takich jak polipropylen, polichlorek winylu, politetrafluoroetylen, poliimid, poliester, żywica epoksydowa i inne polimery) niezależnie od obiektu obróbki. Dlatego jest szczególnie odpowiednie do materiałów, które nie są odporne na ciepło lub rozpuszczalniki.
Ponadto możliwe jest również selektywne czyszczenie całości materiału, jego części lub złożonej struktury.
Czas publikacji: 02-02-2023