It-teknoloġija CVD hija bbażata fuq reazzjoni kimika. Ir-reazzjoni fejn ir-reattanti jkunu fi stat gassuż u wieħed mill-prodotti jkun fi stat solidu ġeneralment tissejjaħ reazzjoni CVD, għalhekk is-sistema ta' reazzjoni kimika tagħha trid tissodisfa t-tliet kundizzjonijiet li ġejjin.
(1) Fit-temperatura tad-depożizzjoni, ir-reattanti jrid ikollhom pressjoni tal-fwar għolja biżżejjed. Jekk ir-reattanti huma kollha gassużi f'temperatura tal-kamra, l-apparat tad-depożizzjoni huwa relattivament sempliċi, jekk ir-reattanti huma volatili f'temperatura tal-kamra li hija żgħira ħafna, jeħtieġ li jissaħħnu biex isiru volatili, u xi kultant jeħtieġ li jintuża l-gass trasportatur biex iwassalhom fil-kamra tar-reazzjoni.
(2) Mill-prodotti tar-reazzjoni, is-sustanzi kollha jridu jkunu fl-istat gassuż ħlief għad-depożitu mixtieq, li jkun fl-istat solidu.
(3) Il-pressjoni tal-fwar tal-film depożitat għandha tkun baxxa biżżejjed biex tiżgura li l-film depożitat ikun imwaħħal sew ma' sottostrat li jkollu ċerta temperatura ta' depożizzjoni matul ir-reazzjoni ta' depożizzjoni. Il-pressjoni tal-fwar tal-materjal tas-sottostrat fit-temperatura tad-depożizzjoni għandha tkun ukoll baxxa biżżejjed.
Ir-reattanti tad-depożizzjoni huma maqsuma fit-tliet stati ewlenin li ġejjin.
(1) Stat gassuż. Materjali tas-sors li huma gassużi f'temperatura tal-kamra, bħal metanu, dijossidu tal-karbonju, ammonja, kloru, eċċ., li huma l-aktar favorevoli għad-depożizzjoni kimika tal-fwar, u li għalihom ir-rata tal-fluss hija regolata faċilment.
(2) Likwidu. Xi sustanzi ta' reazzjoni f'temperatura tal-kamra jew f'temperatura kemxejn ogħla, hemm pressjoni għolja tal-fwar, bħal TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3, eċċ., jistgħu jintużaw biex iġorru l-fluss tal-gass (bħal H2, N2, Ar) mill-wiċċ tal-likwidu jew il-likwidu ġewwa l-bużżieqa, u mbagħad iġorru l-fwar saturat tas-sustanza fl-istudjo.
(3) Stat solidu. Fin-nuqqas ta' sors gassuż jew likwidu adattat, jistgħu jintużaw biss materja prima ta' stat solidu. Xi elementi jew il-komposti tagħhom f'mijiet ta' gradi għandhom pressjoni tal-fwar konsiderevoli, bħal TaCl5, Nbcl5, ZrCl4, eċċ., jistgħu jinġarru fl-istudjo bl-użu tal-gass trasportatur depożitat fis-saff tal-film.
Is-sitwazzjoni l-aktar komuni hija permezz ta' ċertu gass u r-reazzjoni bejn gass u solidu jew gass u likwidu, li tifforma komponenti gassużi xierqa għall-kunsinna fl-istudjo. Pereżempju, il-gass HCl u l-metall Ga jirreaġixxu biex jiffurmaw il-komponent gassuż GaCl3, li jiġi ttrasportat lejn l-istudjo fil-forma ta' GaCl3.
–Dan l-artiklu ġie ppubblikat minnmanifattur tal-magna tal-kisi bil-vakwuGuangdong Zhenhua
Ħin tal-posta: 16 ta' Novembru 2023