पातळ फिल्म उपकरणांच्या गुणवत्तेवर परिणाम करणारे प्रक्रिया घटक आणि कृती यंत्रणा (भाग २)

३. सब्सट्रेट तापमानाचा प्रभाव

सब्सट्रेट तापमान हे पडद्याच्या वाढीसाठी एक महत्त्वाची परिस्थिती आहे. ते पडद्याच्या अणूंना किंवा रेणूंना अतिरिक्त ऊर्जा पुरवते आणि प्रामुख्याने पडद्याची रचना, एकत्रीकरण गुणांक, विस्तार गुणांक आणि एकत्रीकरण घनता यावर परिणाम करते. वेगवेगळ्या सब्सट्रेट तापमानामुळे फिल्म अपवर्तन निर्देशांकातील मॅक्रोस्कोपिक परावर्तन, विखुरणे, ताण, आसंजन, कडकपणा आणि अद्राव्यता खूप भिन्न असेल.

(१) थंड थर: सामान्यतः धातूच्या आवरणाच्या बाष्पीभवनासाठी वापरला जातो.

(२) उच्च तापमानाचे फायदे:

① सब्सट्रेट आणि जमा केलेल्या रेणूंमधील बंधन शक्ती वाढवण्यासाठी सब्सट्रेट पृष्ठभागावर शोषलेले अवशिष्ट वायू रेणू काढून टाकले जातात;

(२) फिल्म लेयरच्या भौतिक शोषणाचे केमिसोर्प्शनमध्ये रूपांतर करण्यास प्रोत्साहन देणे, रेणूंमधील परस्परसंवाद वाढवणे, फिल्म घट्ट करणे, आसंजन वाढवणे आणि यांत्रिक शक्ती सुधारणे;

③ बाष्प आण्विक पुनर्क्रिस्टलायझेशन तापमान आणि सब्सट्रेट तापमानातील फरक कमी करा, फिल्म लेयरची घनता सुधारा, अंतर्गत ताण दूर करण्यासाठी फिल्म लेयरची कडकपणा वाढवा.

(३) खूप जास्त तापमानाचा तोटा: फिल्म लेयरची रचना बदलते किंवा फिल्म मटेरियल विघटित होते.

४. आयन बॉम्बस्फोटाचे परिणाम

प्लेटिंगनंतर बॉम्बर्डमेंट: फिल्मची एकत्रीकरण घनता सुधारणे, रासायनिक अभिक्रिया वाढवणे, ऑक्साईड फिल्मचा अपवर्तनांक वाढवणे, यांत्रिक शक्ती आणि प्रतिकार आणि आसंजन वाढवणे. प्रकाशाच्या नुकसानाची मर्यादा वाढते.
५. सब्सट्रेट मटेरियलचा प्रभाव

(१) सब्सट्रेट मटेरियलच्या वेगवेगळ्या विस्तार गुणांकामुळे फिल्मवर वेगवेगळे थर्मल ताण निर्माण होतील;

(२) वेगवेगळ्या रासायनिक ओढीमुळे चित्रपटाच्या चिकटपणा आणि दृढतेवर परिणाम होईल;

(३) सब्सट्रेटचा खडबडीतपणा आणि दोष हे पातळ फिल्म स्कॅटरिंगचे मुख्य स्रोत आहेत.
६. सब्सट्रेट साफसफाईचा परिणाम

सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर घाण आणि डिटर्जंटचे अवशेष यामुळे होतील: (१) सब्सट्रेटला फिल्मचे खराब चिकटणे; ② स्कॅटरिंग शोषण वाढते, अँटी-लेसर क्षमता कमी असते; ③ खराब प्रकाश प्रसारण कार्यक्षमता.

फिल्म मटेरियलची रासायनिक रचना (शुद्धता आणि अशुद्धतेचे प्रकार), भौतिक स्थिती (पावडर किंवा ब्लॉक), आणि प्रीट्रीटमेंट (व्हॅक्यूम सिंटरिंग किंवा फोर्जिंग) फिल्मची रचना आणि कामगिरीवर परिणाम करतील.

८. बाष्पीभवन पद्धतीचा प्रभाव

रेणू आणि अणूंचे बाष्पीभवन करण्यासाठी वेगवेगळ्या बाष्पीभवन पद्धतींद्वारे प्रदान केलेली प्रारंभिक गतिज ऊर्जा खूप वेगळी असते, ज्यामुळे फिल्मच्या रचनेत मोठा फरक दिसून येतो, जो अपवर्तनांक, विखुरणे आणि आसंजनातील फरक म्हणून प्रकट होतो.

९. बाष्प प्रादुर्भावाचा प्रभाव कोन

बाष्प घटना कोन म्हणजे बाष्प आण्विक किरणोत्सर्गाची दिशा आणि लेपित सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागाच्या सामान्य पातळीमधील कोन, जो चित्रपटाच्या वाढीच्या वैशिष्ट्यांवर आणि एकत्रीकरण घनतेवर परिणाम करतो आणि चित्रपटाच्या अपवर्तक निर्देशांक आणि विखुरण्याच्या वैशिष्ट्यांवर मोठा प्रभाव पाडतो. उच्च-गुणवत्तेच्या चित्रपट मिळविण्यासाठी, चित्रपट सामग्रीच्या बाष्प रेणूंच्या मानवी उत्सर्जनाच्या कोनावर नियंत्रण ठेवणे आवश्यक आहे, जे सामान्यतः 30° पर्यंत मर्यादित असावे.

१०. बेकिंग ट्रीटमेंटचे परिणाम

वातावरणातील फिल्मची उष्णता प्रक्रिया ताण सोडण्यास आणि सभोवतालच्या वायू रेणू आणि फिल्म रेणूंच्या थर्मल स्थलांतरास अनुकूल असते आणि फिल्म पुनर्संयोजनाची रचना करू शकते, म्हणून त्याचा फिल्मच्या अपवर्तक निर्देशांक, ताण आणि कडकपणावर मोठा प्रभाव पडतो.