In физик уурын тунадасжилт(PVD) болон холбогдох вакуум бүрэх процессуудад хальсны цэвэршилтийг ихэвчлэн зорилтот буюу эх материалын дотоод цэвэршилттэй энгийнээр холбодог. Гэсэн хэдий ч практик үйлдвэрлэлд хуримтлагдсан хальсны эцсийн цэвэршилтийг зөвхөн материалын найрлагаар төдийгүй, мөн тунадасжуулалтын эхний үе шатнаас өмнө болон түүний үеийн вакуум орчны чанараар тодорхойлдог. Шахуургын хурд болон эцсийн даралтыг тогтоох нь үлдэгдэл хийн найрлага болон хэсэгчилсэн даралтад шууд нөлөөлж, улмаар хальсны бичил бүтэц болон химийн цэвэршилтэд нөлөөлдөг.
Камер нь агаар мандлын нөхцөл байдлаас өндөр вакуум руу шилжих үед камерын хана, бэхэлгээ, суурь материалаас адсорбцлогдсон хий болон чийг тасралтгүй десорбци явагддаг. Усны уур (H₂O), хүчилтөрөгч (O₂), азот (N₂) болон янз бүрийн нүүрсустөрөгчид түгээмэл байдаг. Хэрэв эдгээр үлдэгдэл зүйлүүд тунадасжих явцад урвалд оролцдог эсвэл ургаж буй хальсанд нэгдвэл хольцын атомуудыг нэвтрүүлэх эсвэл хүсээгүй нэгдлүүдийг үүсгэх бөгөөд энэ нь хальсны цэвэршилтийг бууруулж, цахилгаан шинж чанар, оптик гүйцэтгэл, урт хугацааны тогтвортой байдлыг доройтуулж болзошгүй юм.
Өндөр хурдтай шахуургын гол давуу тал нь өндөр даралтын горимд байх хугацааг хурдан багасгах явдал юм. Барзгар шахуургын үе шатанд завсрын даралтад удаан хугацаагаар өртөх нь камер доторх гадаргуу дээр давтагдсан адсорбци ба десорбцийн процессыг дэмжиж, дахин бохирдох мөчлөгийг бий болгодог. Үр дүнтэй шахуургын хурдыг нэмэгдүүлэх нь системийг энэ даралтын хязгаараар хурдан нэвтрүүлэх боломжийг олгодог бөгөөд усны уур болон органик молекулуудыг дахин шингээх боломжийг бууруулж, өндөр вакуум фазын илүү цэвэр эхлэлийн нөхцлийг бүрдүүлдэг.
Өндөр вакуум горимд орсны дараа үлдэгдэл хийн хэсэгчилсэн даралтыг хянахын тулд шахах хурд нь чухал хэвээр байна. Илүү үр дүнтэй шахах хурд нь тогтвортой төлөвт хэсэгчилсэн даралтыг, ялангуяа хүчилтөрөгч болон усны уурын даралтыг бууруулахад хүргэдэг. Металл хальсан хуримтлалын үед хүчилтөрөгчийн хэсэгчилсэн даралтын бага зэрэг хэлбэлзэл нь гадаргуугийн исэлдэлтийг өдөөж, металлын исэлдэлт үүсч, металлын цэвэршилт буурахад хүргэдэг. Өндөр хүчин чадалтай оптик эсвэл функциональ бүрхүүлд үлдэгдэл чийг нь хальсан нягтралд нөлөөлж, бүтцийн согогийг нэмэгдүүлж болзошгүй.
Өндөр хурдтай шахах нь анхны хальс-субстратын интерфейсийн чанарт нөлөөлдөг. Субстратын гадаргуу нь хуримтлагдсан материалаар бүрэн бүрхэгдэхээс өмнө суурь хийн даралт ихсэх нь хольцын молекулууд интерфейсийн урвалд оролцож, бохирдлын давхарга эсвэл сул холбоо бүхий интерфэйс үүсгэх магадлалыг нэмэгдүүлдэг. Ийм интерфейсийн согогийг дараагийн өсөлтөд арилгахад ихэвчлэн хэцүү байдаг ч хожим нь хүрээлэн буй орчны туршилтын үед наалдацын эвдрэл эсвэл найдвартай байдлын асуудал хэлбэрээр илэрч болно.
Өндөр шахах хурдыг зөвхөн өндөр хүчин чадалтай вакуум насос суурилуулснаар олж авдаггүй гэдгийг тэмдэглэх нь чухал юм. Энэ нь насосны тохиргоо, вакуум шугамын дамжуулах чадвар, хавхлагын хариу урвалын шинж чанар, камерын бүтцийн дизайныг цогцоор нь оновчтой болгохыг шаарддаг. Зөвхөн системийн нийт шахах үр ашгийг хангасан тохиолдолд л үлдэгдэл хийг хурдан зайлуулж, бага хэсэгчилсэн даралтыг тогтвортой байлгаж, өндөр цэвэршилттэй хальс үүсгэх тогтвортой суурийг бий болгоно.
Дэвшилтэт функциональ бүрхүүл, оптик хальс, нарийн электрон хэрэглээнд гүйцэтгэлийн ялгаа нь ул мөрийн түвшний хольцын хуримтлагдсан нөлөөллөөс ихэвчлэн үүсдэг. Тиймээс хурдан бөгөөд тогтвортой шахах чадвар нь зөвхөн процессын үр ашгийн асуудал биш юм; энэ нь хальсны чанарыг зохицуулах механизмд шууд оролцдог үндсэн процессын нөхцөл юм.
-Энэ нийтлэлийг нийтэлсэнвакуум бүрэх тоног төхөөрөмж үйлдвэрлэгч Жэнхуа тоос сорогч
Нийтэлсэн цаг: 2026 оны 2-р сарын 6