Wëllkomm bei Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Neiegkeeten
-
Präzisiouns-Vakuumbeschichtungsausrüstung
Präzisiouns-Vakuumbeschichtungsausrüstung bezitt sech op speziell Maschinnen, déi dënn Schichten a Beschichtungen op verschidde Materialien mat extrem héijer Präzisioun applizéieren. De Prozess fënnt an engem Vakuumëmfeld statt, wat Ongereinheeten eliminéiert an zu enger iwwerleeëner Uniformitéit a Konsistenz bei der Beschichtungsapplikatioun féiert...Liest méi -
Grouss horizontal Vakuumbeschichtungsausrüstung
Ee vun de wichtegste Virdeeler vu groussen horizontalen Vakuumbeschichtungsapparater ass seng Fäegkeet, dënn, eenheetlech Beschichtungen op grouss, flaach Substrater opzedroen. Dëst ass besonnesch wichteg an Industrien ewéi der Glasproduktioun, wou et essentiell ass, eng konsequent Beschichtungsdicke iwwer eng grouss Uewerfläch z'erreechen...Liest méi -
Watch Ion Gold Vakuumbeschichtungsmaschinn
De Funktionsprinzip vun der Auer-Ionen-Gold-Vakuumbeschichtungsmaschinn ass d'Benotzung vum physikalesche Vapor Deposition (PVD) Prozess fir eng dënn Schicht Gold op d'Uewerfläch vun den Auerdeeler ze placéieren. De Prozess besteet doran, d'Gold an enger Vakuumkammer ze erhëtzen, wouduerch et verdampft an dann op der Uewerfläch kondenséiert...Liest méi -
Nano Keramik Vakuumbeschichtungsmaschinn
D'Nano-Keramik-Vakuumbeschichtungsmaschinn ass eng modern Technologie, déi e Vakuumoflagerungsprozess benotzt fir dënn Schichten vu Keramikmaterialien op verschidde Substrater ze beschichten. Dës fortgeschratt Beschichtungsmethod bitt vill Virdeeler, dorënner erhéicht Häert, verbessert thermesch Stabilitéit a besser Widderstandsfäegkeet...Liest méi -
Verschidde gemeinsam Zilmaterialien
1. Chrom-Zil Chrom als Sputterfilmmaterial ass net nëmmen einfach mam Substrat mat héijer Haftung ze kombinéieren, mä och Chrom an Oxid fir e CrO3-Film ze generéieren, seng mechanesch Eegeschaften, Säurebeständegkeet, thermesch Stabilitéit si besser. Zousätzlech ass Chrom an der onvollstänneger Oxidatioun...Liest méi -
Technologie vun der Ionenstrahl-assistéierter Oflagerung
1. D'Technologie vun der Ionenstrahl-assistéierter Oflagerung zeechent sech duerch eng staark Adhäsioun tëscht der Membran an dem Substrat, wouduerch d'Membranschicht ganz staark ass. Experimenter weisen datt: d'Adhäsioun duerch Ionenstrahl-assistéiert Oflagerung méi grouss ass wéi d'Adhäsioun duerch thermesch Gasoflagerung, wat e puermol bis zu honnert Mol méi grouss ass...Liest méi -
Charakteristiken an Uwendungen vun der reaktiver Sputterbeschichtung
Beim Sputterbeschichtungsprozess kënne Verbindungen als Ziler fir d'Virbereedung vu chemesch synthetiséierte Filmer benotzt ginn. D'Zesummesetzung vum Film, deen nom Sputteren vum Zilmaterial entsteet, wäicht awer dacks staark vun der ursprénglecher Zesummesetzung vum Zilmaterial of, an dofir...Liest méi -
Charakteristike vum Temperaturkoeffizient vum Metallfilmwidderstand
De Temperaturkoeffizient vum Widderstand vum Metallfilm variéiert mat der Filmdicke, dënn Filmer si negativ, déck Filmer si positiv, an déck Filmer si ähnlech awer net identesch mat Bulkmaterialien. Am Allgemengen ännert sech de Temperaturkoeffizient vum Widderstand vun negativ op positiv...Liest méi -
Charakteristiken an Uwendung vun Ionenbeschichtungen Kapitel 2
③ Héich Qualitéit vun der Beschichtung Well Ionenbombardement d'Dicht vun der Membran verbesseren kann, d'Organisatiounsstruktur vun der Membran verbessert, wouduerch d'Uniformitéit vun der Membranschicht gutt ass, d'Beschichtungsorganisatioun dicht ass, manner Lächer a Blasen, wouduerch d'Qualitéit vun der Membran verbessert gëtt ...Liest méi -
Charakteristiken an Uwendung vun Ionenbeschichtungen - Kapitel 1
Am Verglach mat Verdampfungsplattéierung a Sputterplattéierung ass déi wichtegst Eegeschaft vun der Ionenplattéierung, datt déi energesch Ionen de Substrat an d'Filmschicht bombardéieren, während d'Oflagerung stattfënnt. D'Bombardement vu geluedenen Ionen produzéiert eng Serie vun Effekter, haaptsächlech wéi follegt. ① Membran / Basis...Liest méi -
Spezial Magnéitesch Kontrollbeschichtungsausrüstung fir Faarffilm
Déi speziell Magnetron-Beschichtungsausrüstung fir Faarffilm benotzt d'Kraaft vum Magnéitfeld fir d'Oflagerung vu Beschichtungsmaterialien um Filmsubstrat präzis ze kontrolléieren. Dës innovativ Technologie erméiglecht eng onvergläichlech Uniformitéit a Konsistenz beim Beschichtungsprozess, wat zu enger héichqualitativer...Liest méi -
Auer Sputtering Beschichtungsmaschinn
D'Auersputterbeschichtungsmaschinn benotzt de physikalesche Vapor Deposition (PVD) Prozess fir e dënne Film vu Beschichtungsmaterial op Auerdeeler opzedroen. D'Method bitt exzellent Haftung, eenheetlech Ofdeckung an eng Vielfalt vu Beschichtungsoptiounen, dorënner metallesch, keramesch a diamantähnlech Kuelestoff. Als Resultat, w...Liest méi -
Oxidatiounsbeständeg Filmbeschichtungsmaschinn
Déi oxidatiounsbeständeg Filmbeschichtungsmaschinn ass eng modern Technologie, déi eng Schutzschicht bitt fir Oxidatioun ze verhënneren an d'Haltbarkeet a Liewensdauer vu Metallkomponenten ze verbesseren. Dës Maschinn applizéiert eng dënn Filmbeschichtung op d'Uewerfläch vu Materialien a schaaft eng Barrière géint Korrosioun ...Liest méi -
Integréiert Lampeschutzfolieausrüstung
D'Integratioun vun fortgeschratt Technologie a modern Beliichtungsarmaturen verbessert hir Leeschtung an Effizienz däitlech. Dëst mécht se awer och méi ufälleg fir Schied duerch verschidde extern Faktoren. Dofir, fir dës wäertvoll Verméigen ze schützen an hir Liewensdauer ze maximéieren, ...Liest méi -
Zilauswiel a Klassifikatioun
Mat der wuessender Entwécklung vun der Sputterbeschichtung, besonnesch der Magnetron-Sputterbeschichtungstechnologie, kann de Moment fir all Material duerch en Ionenbombardement-Zilfilm virbereet ginn, well d'Zil beim Beschichtungsprozess op eng Zort Substrat gesputtert gëtt, ass d'Qualitéit vun de Moossnamen ...Liest méi
