Machina ad vacuum applicandum in systemate antliationis haec requisita fundamentalia habet:
(1) Systema vacui obductionis satis magnam ratem exhalationis habere debet, quae non solum vapores e substrato et materiis evaporatis necnon componentibus in camera vacui durante obductione emissis celeriter expellere debet, sed etiam vapores e processu pulverisationis et obductionis ionibus emissis, necnon vapores e processu pulverisationis et obductionis ionibus et systematis celeriter expellere possit.
Effusio gasorum per pulverisationem cathodicam et processus ionizationis etiam celeriter extrahi potest. Ut productivitas machinae inscriptionis augeatur, celeriter operari posse debet.
(2) Vacuum ultimum systematis pumpandi machinae obducentis secundum requisita diversarum pellicularum differre debet. Tabula 7-9 gradus vacui a processu obductionis diversarum pellicularum requisiti ostendit.
(3) In antlia diffusionis olei, ut systemate antliae principali, requiritur ut reditus olei ab antlia quam minimus sit, quia vapor olei revertens superficiem materiae inquinabit et qualitatem pelliculae deteriorem faciet. Cum requisita qualitatis pelliculae in processu obductionis praecipue alta sint, optimum est systema antliae sine oleo adhibere. Cum systema antliae diffusionis olei adhibetur, in introitu antliae siphon adsorptionis, siphon frigidi, et alia elementa collocanda sunt, et conductivitati partium attendendum est ut systema vacui maximam celeritatem antliae servet.
(4) Effusio gasis e camera obductionis vacui eiusque systemate pumpandi parva esse debet, id est, etiamsi vestigium gasis effluat, qualitatem pelliculae afficiet. Ergo, ut efficacia obsignationis systematis confirmetur, summa effusio systematis intra limites permissos limitanda est.
(5) Operatio, usus et conservatio systematis vacui commoda, stabilia et certa efficacia esse debent.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XIV Decembris MMXXIII