Technologia CVD (Degradationis Chronologicae) reactione chemica nititur. Reactio in qua reactantes in statu gasoso sunt et unum productum in statu solido plerumque reactio CVD appellatur, ergo systema reactionis chemicae eius his tribus condicionibus satisfacere debet.
(1) Temperatura depositionis, reactantes pressionem vaporis satis altam habere debent. Si reactantes omnes gasosi sunt temperatura ambiente, instrumentum depositionis relative simplex est; si reactantes volatiles sunt temperatura ambiente valde parva, calefieri debent ut volatiles fiant, et interdum gas vectorium adhibendum est ad eos in cameram reactionis deferendos.
(2) Ex productis reactionis, omnes substantiae in statu gasoso esse debent praeter depositum desideratum, quod in statu solido est.
(3) Pressio vaporis pelliculae depositae satis humilis esse debet ut pellicula deposita firmiter adhaereat substrato cum certa temperatura depositionis durante reactione depositionis. Pressio vaporis materiae substrati ad temperaturam depositionis etiam satis humilis esse debet.
Reactantes depositionis in tres status principales sequentes dividuntur.
(1) Status gasosus. Materiae primae quae gasosae sunt temperatura ambiente, ut methanum, dioxidum carbonis, ammonia, chlorum, etc., quae maxime conducunt depositioni vaporis chemici, et quarum celeritas fluxus facile regulatur.
(2) Liquidum. Quaedam substantiae reactionis, temperatura ambiente vel paulo altiore, pressione vaporis magna praeditae, ut TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3, etc., adhibēri possunt ad fluendum gas (ut H2, N2, Ar) per superficiem liquidi vel liquorem intra bullas, et deinde vapores saturatos substantiae in studio transportant.
(3) Status solidus. Si fons gasosus vel liquidus idoneus abest, solae materiae primae status solidi adhiberi possunt. Quaedam elementa vel eorum composita in centenis gradibus pressionem vaporis considerabilem habent, ut TaCl5, Nbcl5, ZrCl4, etc., in studio transportari possunt gas vectorium in stratum pelliculae depositum utentes.
Frequentius condicio fit per reactionem gasis cum materia prima, sive solidi sive liquidi, sive gasis, quae formationem partium gaseosarum idonearum ad officinam transmittit. Exempli gratia, gas HCl et metallum Ga reagunt ut partem gaseosam GaCl forment, quae ad officinam in forma GaCl transportatur.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XVI Kalendas Decembres, anno MMXXIII