Unsur Proses lan Mekanisme tumindak sing mengaruhi kualitas piranti film tipis (Bagian 2)

3. Pengaruh suhu substrat

Suhu substrat minangka salah sawijining kondisi penting kanggo pertumbuhan membran. Nyedhiyakake tambahan energi tambahan kanggo atom utawa molekul membran, lan utamane mengaruhi struktur membran, koefisien aglutinasi, koefisien ekspansi lan kapadhetan agregasi. Refleksi makroskopik ing indeks bias film, scattering, stress, adhesion, atose lan insolubility bakal beda banget amarga suhu substrat sing beda.

(1) landasan kadhemen: umume digunakake kanggo penguapan film logam.

(2) Kaluwihan saka suhu dhuwur:

① Molekul gas turahan adsorbed ing lumahing substrat dibusak kanggo nambah gaya naleni antarane substrat lan molekul setor;

(2) Ningkatake transformasi adsorpsi fisik kanggo chemisorption saka lapisan film, nambah interaksi antarane molekul, nggawe film nyenyet, nambah adhesion lan nambah kekuatan mechanical;

③ Ngurangi prabédan antarane suhu recrystallization molekul uap lan suhu landasan, nambah Kapadhetan lapisan film, nambah atose lapisan film kanggo ngilangke kaku internal.

(3) Kerugian suhu dhuwur banget: struktur lapisan film diganti utawa materi film decomposes.

4. Efek saka bombardment ion

Bombardment sawise plating: nambah Kapadhetan panggabungan saka film, nambah reaksi kimia, nambah indeks bias saka film oxide, mechanical kekuatan lan resistance lan adhesion. Ambang karusakan cahya mundhak.
5. Pengaruh materi substrate

(1) Koefisien ekspansi sing beda saka materi substrat bakal nyebabake stres termal film sing beda;

(2) Karemenan kimia beda bakal mengaruhi adhesion lan firmness saka film;

(3) Kekasaran lan cacat substrat minangka sumber utama panyebaran film tipis.
6. Dampak reresik substrat

Sisa rereget lan deterjen ing permukaan substrat bakal nyebabake: (1) adhesi film sing ora apik menyang substrat; ② Penyerapan scattering mundhak, kemampuan anti-laser kurang; ③ Kinerja transmisi cahya sing kurang.

Komposisi kimia (jinis kemurnian lan impurity), negara fisik (wêdakakêna utawa pamblokiran), lan pretreatment (sintering vakum utawa forging) saka materi film bakal mengaruhi struktur lan kinerja film.

8. Pengaruh cara penguapan

Energi kinetik awal sing diwenehake dening cara penguapan sing beda kanggo nguapake molekul lan atom beda banget, nyebabake bedane struktur film, sing diwujudake minangka prabédan ing indeks bias, scattering lan adhesion.

9. Pengaruh saka kedadean beluk Angle

Kedadean beluk Angle nuduhake Angle antarane arah radiation molekul beluk lan lumahing normal saka landasan ditutupi, kang mengaruhi karakteristik wutah lan Kapadhetan panggabungan saka film, lan wis pengaruh gedhe ing indeks bias lan ciri scattering saka film. Kanggo entuk film berkualitas tinggi, perlu kanggo ngontrol Sudut emisi manungsa saka molekul uap bahan film, sing umume diwatesi nganti 30 °.

10. Efek perawatan baking

Perawatan panas film ing atmosfer kondusif kanggo release kaku lan migrasi termal saka molekul gas lingkungan lan molekul film, lan bisa nggawe struktur rekombinasi film, supaya wis pengaruh gedhe ing indeks bias, kaku lan atose film.