Vinnureglur CVD tækni

CVD tækni byggir á efnahvörfum. Efnahvörfin þar sem hvarfefnin eru í gasformi og ein af afurðunum er í föstu formi eru venjulega kölluð CVD viðbrögð, þess vegna verður efnahvarfskerfið að uppfylla eftirfarandi þrjú skilyrði.

(1) Við útfellingarhitastigið verða hvarfefnin að hafa nægilega háan gufuþrýsting. Ef hvarfefnin eru öll gaskennd við stofuhita er útfellingarbúnaðurinn tiltölulega einfaldur. Ef hvarfefnin eru rokgjörn við stofuhita er magn þeirra mjög lítið og þarf að hita þau til að gera þau rokgjörn og stundum þarf að nota burðargas til að flytja þau í hvarfklefann.
(2) Af efnahvarfsafurðunum verða öll efni að vera í gasformi nema sú útfelling sem óskað er eftir, sem er í föstu formi.
(3) Gufuþrýstingur filmunnar sem er sett niður ætti að vera nógu lágur til að tryggja að filman festist vel við undirlag sem hefur ákveðið útfellingarhitastig meðan á útfellingarviðbrögðum stendur. Gufuþrýstingur undirlagsefnisins við útfellingarhitastigið verður einnig að vera nógu lágur.
Útfellingarhvarfefnin eru skipt í eftirfarandi þrjú meginástand.
(1) Loftkennt ástand. Upprunaefni sem eru loftkennd við stofuhita, svo sem metan, koltvísýringur, ammóníak, klór o.s.frv., sem eru hvað hentugust fyrir efnafræðilega gufuútfellingu og þar sem auðvelt er að stjórna rennslishraða.
(2) Vökvi. Sum efni sem hvarfast við stofuhita eða aðeins hærra hitastig og hafa háan gufuþrýsting, eins og TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3 o.s.frv., geta notað til að flytja lofttegundir (eins og H2, N2, Ar) í gegnum yfirborð vökvans eða í loftbólum sem mynda vökvann og síðan mettaða gufu efnisins inn í vinnustofuna.
(3) Fast efni. Þegar ekki er til hentugur gas- eða vökvagjafi er hægt að nota aðeins hráefni í föstu formi. Sum frumefni eða efnasambönd þeirra í hundruðum gráða hafa töluverðan gufuþrýsting, eins og TaCl5, Nbcl5, ZrCl4 o.s.frv., er hægt að flytja inn í vinnustofuna með því að nota burðargasið sem er sett í filmulagið.
Algengara er að tiltekið gas muni mynda gas-fast efni eða gas-vökva sem efnahvarf og viðeigandi loftkenndar efnisþætti sem berast í stúdíóið. Til dæmis hvarfast HCl gas og málmurinn Ga til að mynda gaskennda efnið GaCl, sem er flutt í stúdíóið sem GaCl.

–Þessi grein er gefin út afframleiðandi tómarúmhúðunarvélaGuangdong Zhenhua