N'ihe gbasara injinịa elu nke oge a, Physical Vapor Deposition (PVD) apụtala dị ka teknụzụ mkpuchi oghere dị mkpa n'ihi arụmọrụ ya dị mma na njirimara ya na-adịghị ize ndụ maka gburugburu ebe obibi. Isiokwu a na-enye nyocha miri emi nke ụkpụrụ, nhazi, na ojiji nkịtị nke teknụzụ PVD, na-enye nghọta teknụzụ maka ndị ọkachamara n'ọhịa ahụ.
Nke 1 Ụkpụrụ Ndị Dị Mkpa nke Teknụzụ PVD
PVD bụ usoro a na-eme n'okpuru ọnọdụ ikuku (nke na-abụkarị ≤10⁻³ Pa), ebe a na-ekupụ ihe mkpuchi ahụ wee kpọchie ya n'elu ihe mkpuchi ahụ iji mepụta ihe mkpuchi siri ike. Usoro a na-eji:
Oke okpomọkụ nkwụnye (n'ozuzu <500°C)
Ịdị ọcha dị elu na ihe mejupụtara a na-achịkwa
Ọ dị mma maka gburugburu ebe obibi (anaghị ewepụta mmiri mkpofu)
Njikwa nkenke ọkwa Nanometer
Nkebi nke 2 nke nhazi nkeNgwa PVDtUsoro
1. Mkpuchi Uzuoku Vacuum
Mwepụ uzuoku gụnyere ikpo ihe mkpuchi ahụ ọkụ ruo mgbe ọ ruru nrụgide uzuoku ya jupụtara ma kubie ume. Ụdị ndị a na-ahụkarị gụnyere:
Mmiri na-eguzogide okpomọkụ
Ọ na-eji ígwè ndị na-anaghị agbaze agbaze dịka tungsten ma ọ bụ molybdenum dị ka ihe na-ekpo ọkụ. Ọ dabara adaba maka ihe ndị na-anaghị agbaze agbaze dị ka aluminom (Al) na ọlaọcha (Ag).
Mmiri ikuku elektrọn (EB-PVD)
Ọ na-eji egbe elektrọn (10–30 kV) atụba ihe a chọrọ iji tụọ ihe ahụ, na-emepụta okpomọkụ mpaghara karịa 3000°C. Ọ dị mma maka oxides ndị na-agbaze nke ukwuu.
Mkpụrụ ndụ ihe nketa molekụla (MBE)
Usoro a na-arụ n'okpuru oghere dị elu (≤10⁻⁸ Pa), nke na-enye ohere ijikwa ọkwa atọm maka uto nke ihe nkiri epitaxial.
2. Ndoputa nke na-agbawa agbawa
Ịgbasa ihe gụnyere obere ihe ndị nwere ike dị elu na-atụba ihe a na-achọ, na-ewepụ atọm ndị na-abanye na ihe ahụ. Ụdị ịgbasa ihe ndị dị mkpa gụnyere:
DC Sputtering (Ọnọdụ kpọmkwem)
Usoro ịgbasa ihe dị mkpa; ihe mgbaru ọsọ ga-abụrịrị nke na-eduzi eletriki.
Ịgbasa RF (Ugboro redio)
Na-arụ ọrụ na 13.56 MHz, na-enye ohere ịgbasa ihe mkpuchi.
Ịkpọpụta Magnetron
Ụdị Nhazi: Ike magnetik nke Gauss 100–300 n'elu ihe mgbaru ọsọ ahụ
Ụdị Na-adịghị Eguzozi: Mgbasa plasma ka mma maka nchekwa ka mma
Kathode Ejima nke Abụọ Na-agbakarị: Na-edozi nsogbu "nsị ebumnuche" na sputtering mmeghachi omume
Igwe Magnetron Nwere Ike Ike Dị Elu (HIPIMS): Ọnụego ionization karịrị 90%, na-emepụta ihe nkiri dị oke njupụta, na-abụghị kọlụm
Nke 3 Ngwa A Na-ejikarị Eme Ihe Maka Teknụzụ PVD
Mkpuchi Ngwaọrụ
Mkpuchi siri ike dịka TiN, TiAlN (ike siri ike >3000 HV)
A na-eji ya eme ihe maka ịkpụ ngwaọrụ na nkwalite elu ebu
Mkpuchi Mma
Mmecha dị ka ọlaedo site na iji ZrN, TiZrN
A na-etinye ya na fremu ekwentị mkpanaaka, ihe eji arụ ụlọ ịsa ahụ, na ngwaahịa ndị ahịa
Ihe nkiri dị gịrịgịrị arụ ọrụ
Ihe nkiri ITO (Indium Tin Oxide) nke na-eduzi ihe na-enweghị ntụpọ nwere ike iguzogide mpempe akwụkwọ <10 Ω/□
Mkpuchi mgbochi anya nke nwere ike ịpụta ìhè nke ọma >99%
Nkwakọ ngwaahịa Semiconductor
Metallization ọkwa Wafer (njikọ Al, Cu)
Ntinye ihe mgbochi site na iji TaN, TiN maka iguzogide mgbasa
-E bipụtara akụkọ a site n'aka onyeigwe mkpuchi igwe emeputa ihe mkpuchi Zhenhua Vacuum.
Oge ozi: Juun-18-2025