Teknologi CVD didasarkan pada reaksi kimia. Reaksi di mana reaktan berada dalam keadaan gas dan salah satu produk berada dalam keadaan padat biasanya disebut reaksi CVD, oleh karena itu sistem reaksi kimianya harus memenuhi tiga kondisi berikut.
(1) Pada suhu pengendapan, reaktan harus memiliki tekanan uap yang cukup tinggi. Jika semua reaktan berwujud gas pada suhu ruangan, alat pengendapannya relatif sederhana, jika reaktan yang mudah menguap pada suhu ruangan sangat kecil, maka perlu dipanaskan agar mudah menguap, dan terkadang perlu menggunakan gas pembawa untuk membawanya ke ruang reaksi.
(2) Dari hasil reaksi, semua zat harus berwujud gas, kecuali endapan yang diinginkan yaitu berwujud padat.
(3) Tekanan uap dari film yang diendapkan harus cukup rendah untuk memastikan bahwa film yang diendapkan melekat dengan kuat pada substrat yang memiliki suhu pengendapan tertentu selama reaksi pengendapan. Tekanan uap bahan substrat pada suhu pengendapan juga harus cukup rendah.
Reaktan pengendapan dibagi menjadi tiga keadaan utama berikut.
(1) Keadaan gas. Bahan sumber yang berbentuk gas pada suhu ruangan, seperti metana, karbon dioksida, amonia, klorin, dll., yang paling kondusif untuk pengendapan uap kimia, dan yang laju alirannya mudah diatur.
(2) Cairan. Beberapa zat reaksi pada suhu kamar atau suhu sedikit lebih tinggi, terdapat tekanan uap yang tinggi, seperti TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3, dll., dapat digunakan untuk membawa aliran gas (seperti H2, N2, Ar) melalui permukaan cairan atau cairan di dalam gelembung, dan kemudian membawa uap jenuh zat tersebut ke dalam studio.
(3) Keadaan padat. Jika tidak ada sumber gas atau cairan yang sesuai, hanya bahan baku keadaan padat yang dapat digunakan. Beberapa unsur atau senyawanya dalam ratusan derajat memiliki tekanan uap yang cukup besar, seperti TaCl5, Nbcl5, ZrCl4, dll., dapat dibawa ke studio menggunakan gas pembawa yang diendapkan ke dalam lapisan film.
Situasi yang lebih umum adalah melalui gas tertentu dan bahan sumber reaksi gas-padat atau gas-cair, pembentukan komponen gas yang sesuai untuk pengiriman studio. Misalnya, gas HCl dan logam Ga bereaksi membentuk komponen gas GaCl, yang diangkut ke studio dalam bentuk GaCl.
–Artikel ini dirilis olehprodusen mesin pelapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktu posting: 16-Nov-2023