I nā ʻenehana uhi hakahaka hou, ʻo ka kaohi voltage bias kahi palena koʻikoʻi e hoʻopili pololei ana i ka microstructure ʻili lahilahi, ka density, ke kaumaha kūloko, a me ka ikaika pipili. Inā paha i loko o nā uhi paʻakikī, nā kiʻiʻoniʻoni hoʻonaninani, a i ʻole nā uhi optical, ʻo ka kaohi kūpono o ka voltage bias substrate ʻaʻole wale ia e hoʻololi i ka dynamics plasma, akā hoʻomaikaʻi pū i ka hana a me ka hilinaʻi o nā kiʻiʻoniʻoni hopena.
Helu 1 He aha ka Mana Uila Bias?
Ka mana uila biasʻO ke ʻano hana o ka hoʻopili ʻana i kahi hiki maikaʻi ʻole i ka substrate i ka wā o ka waiho ʻana, e hoʻolilo ana iā ia i mea uila haʻahaʻa ma mua o ka plasma a puni. Hoʻohana nui ʻia kēia ʻano hana i nā kaʻina hana PVD (Physical Vapor Deposition), ʻoi aku hoʻi i ka magnetron sputtering, ion plating, a me nā ʻōnaehana waiho ʻana o ka arc cathodic.
Hiki ke hoʻopili ʻia ka mana substrate ma o nā lako mana DC (Direct Current), MF (Mid-Frequency), a i ʻole RF (Radio Frequency). ʻO kāna hana nui ka hoʻolalelale ʻana i nā ion maikaʻi i loko o ka plasma i ka ʻili o ka substrate, e hiki ai ke hoʻouka ʻia ka ion e paipai ana i nā ʻano ulu kiʻiʻoniʻoni i makemake ʻia.
No.2 Pehea e pili ai ka Bias Voltage i nā waiwai kiʻiʻoniʻoni
ʻO ke ʻano kumu o ka kaohi ʻana i ke voltage bias e pili ana i ka hoʻololi ʻana i nā kinetics ulu kiʻiʻoniʻoni ma o ka ikehu o nā ions e hiki mai ana. Hōʻike ʻia kona hopena ma kekahi mau ʻano koʻikoʻi:
Hoʻopaʻa ʻana:
Hoʻonui kahi manaʻo kūpono ʻole i ka ikehu kinetic o nā ions e hōʻea ana i ka substrate, e paipai ana i ka neʻe ʻana o ka ʻili a me ka hoʻonohonoho hou ʻana o nā adatoms. ʻO kēia ke alakaʻi i nā kiʻiʻoniʻoni ʻoi aku ka paʻakikī me ka pale ʻana i ka pala, ka paʻakikī, a me ke kū'ē ʻana i ka ʻaʻahu.
Hoʻoponopono Koʻikoʻi:
Hoʻokomo pū ka hoʻouka ʻana o ka Ion i ke koʻikoʻi koena i loko o ke kiʻiʻoniʻoni. Hiki i ka bias nui ke hoʻoulu i ke koʻikoʻi compressive, e hiki ai ke hana i ka haki a i ʻole ka delamination. No laila, pono e koho pono ʻia nā pae bias kūpono ma muli o ka mea kiʻiʻoniʻoni, ke ʻano substrate, a me ka mānoanoa o ka uhi.
Hoʻonui i ka hoʻopili ʻana:
Hoʻonui ka voltage bias i nā pilina interfacial ma o ka hoʻolaha ʻana i ka hui ʻana o ka interlayer a i ʻole ke kūkulu ʻana i nā interfaces graded, no laila e hoʻomaikaʻi ai i ka hoʻopili ʻana o ka kiʻiʻoniʻoni-a-substrate—he mea koʻikoʻi loa ia no nā uhi paʻakikī a i ʻole nā hale multilayer.
Ka Hoʻopau ʻana i nā ʻāpana a me ka Hoʻomaʻemaʻe ʻana i ka ʻIli:
Hiki i ka manaʻo kūpono ke kāohi i ka hoʻokomo ʻana o ka macro-particle a hōʻemi i ka ʻoʻoleʻa o ka ʻili, a laila e hoʻemi ana i ka pohō scattering i nā kiʻiʻoniʻoni optical a hoʻomaikaʻi i ka maikaʻi o ka ʻili.
Helu 3 Nā ʻAno o nā Hana Hoʻomalu Bias
DC Bias: Hoʻohana pinepine ʻia no nā substrates conductive, e hāʻawi ana i ka mana maʻalahi a me ka pane wikiwiki. ʻO ke ʻano maʻamau i nā uhi hoʻonaninani a me nā uhi paʻakikī.
RF Bias: Kūpono no nā substrates non-conductive e like me ke aniani, nā keramika, a me nā polymers. Hāʻawi i ka hoʻohālikelike ākea o nā mea akā koi ʻia ka hoʻohui ʻōnaehana ʻoi aku ka paʻakikī a me ka hoʻonohonoho ʻana i ke kaʻina hana.
Pulsed Bias: Pili i ka hoʻopili ʻana i nā pulse bias periodic, ke kaulike ʻana i ka helu deposition a me ka ikehu ion. Kūpono no nā uhi haʻahaʻa haʻahaʻa a i ʻole nā geometries paʻakikī.
Eia kekahi, hoʻohana kekahi mau ʻōnaehana holomua i ka mana hoʻopāpā pani-loop, kahi e nānā ai i nā ʻano plasma a me ke au bias i ka manawa maoli e mālama i kahi puka makani paʻa a hōʻoia i ka like ʻana o ka uhi ʻana ma nā ʻāpana.
—Ua paʻi ʻia kēia ʻatikala e nā lako hana uhi vacuummea hana Zhenhua Vacuum
Ka manawa hoʻouna: Iulai-17-2025