به شرکت فناوری گوانگدونگ ژنهوا خوش آمدید.
اخبار صنعت
-
درک فرآیند رنگ PVD: آشکار کردن امکانات پویا
به وبلاگ رسمی ما خوش آمدید، جایی که ما به دنیای جذاب فرآیند رنگ PVD میرویم. محبوبیت این فناوری نوآورانه در سالهای اخیر انقلابی در زمینه عملیات سطحی ایجاد کرده است. امروز، هدف ما روشن کردن پیچیدگیهای این فرآیند، نحوه عملکرد آن و چگونگی ...ادامه مطلب -
بازار دستگاه پوششدهی در خلاء
با گسترش مداوم صنعت تولید جهانی، تقاضا برای دستگاههای پوششدهی خلاء پیشرفته و کارآمد به طور قابل توجهی افزایش یافته است. این پست وبلاگ با هدف ارائه تجزیه و تحلیل جامع از بازار پوششدهی خلاء، با تمرکز بر وضعیت فعلی، عوامل کلیدی رشد، ...ادامه مطلب -
درک فرآیند پوششدهی در خلاء: بهبود مواد از طریق فناوریهای پیشرفته
معرفی: در زمینه تولید و توسعه مواد، فرآیند پوششدهی در خلاء به عنوان یک فناوری کلیدی که صنایع مختلف را متحول کرده است، برجسته است. این فناوری پیشرفته امکان اعمال لایههای نازک روی سطوح مختلف را فراهم میکند و خواص و عملکرد بهبود یافتهای را ارائه میدهد....ادامه مطلب -
هزینه پوشش PVD: واقعاً چقدر به هزینههای شما اضافه میکند؟
وقتی صحبت از افزایش دوام و زیبایی محصولات مختلف میشود، پوشش PVD به عنوان یک انتخاب محبوب در صنایع مختلف ظهور کرده است. از قطعات خودرو گرفته تا وسایل خانگی، این فناوری پوشش پیشرفته مزایای بیشماری را ارائه میدهد. با این حال، مشتریان بالقوه اغلب خود را...ادامه مطلب -
تجهیزات پوششدهی DLC: انقلابی در بهبود سطوح صنعتی
مقدمه: در دنیای همواره در حال تکامل فناوری و تولید، یافتن راهحلهای نوآورانه برای بهبود کارایی و دوام تجهیزات صنعتی بسیار مهم است. پوششهای کربن شبه الماس (DLC) رویکردی نوآورانه است که توجه زیادی را به خود جلب کرده است. این پوشش پیشرفته...ادامه مطلب -
فرآیند پوشش یونی کاتدی توخالی
فرآیند پوشش یون کاتدی توخالی به شرح زیر است: ۱. شمشهای چین را در محفظه فروریخته قرار دهید. ۲. قطعه کار را نصب کنید. ۳. پس از تخلیه تا ۵×۱۰-۳Pa، گاز آرگون از لوله نقره به داخل محفظه پوشش وارد میشود و سطح خلاء حدود ۱۰۰Pa است. ۴. قدرت بایاس را روشن کنید. ۵.ادامه مطلب -
بازار پرسود تجهیزات پوششدهی نوری: پتانسیل فروش بسیار بالا
صنعت پوششدهی نوری در طول سالها به دلیل پیشرفتهای تکنولوژیکی، افزایش تقاضا برای اپتیک با عملکرد بالا و صنعتی شدن سریع، شاهد رشد قابل توجهی بوده است. از این رو، بازار جهانی تجهیزات پوششدهی نوری در حال رونق گرفتن است و فرصتهای عظیمی را برای شرکتهای ... ایجاد میکند.ادامه مطلب -
تحلیل مزایا و معایب تبخیر با پرتو الکترونی
معرفی: در زمینه فناوری رسوب لایه نازک، تبخیر با پرتو الکترونی روشی مهم است که در صنایع مختلف برای تولید لایههای نازک با کیفیت بالا مورد استفاده قرار میگیرد. خواص منحصر به فرد و دقت بینظیر آن، آن را به انتخابی جذاب برای محققان و تولیدکنندگان تبدیل کرده است. با این حال، مانند یک...ادامه مطلب -
رسوبدهی به کمک پرتو یونی و منبع یون کمانرژی
1. رسوبگذاری به کمک پرتو یونی عمدتاً از پرتوهای یونی کمانرژی برای کمک به اصلاح سطح مواد استفاده میکند. (1) ویژگیهای رسوبگذاری به کمک یون در طول فرآیند پوششدهی، ذرات فیلم رسوبشده بهطور مداوم توسط یونهای باردار از منبع یون روی سطح ... بمباران میشوند.ادامه مطلب -
رنگ فیلم تزئینی
خود فیلم به صورت انتخابی نور تابیده شده را منعکس یا جذب میکند و رنگ آن نتیجه خواص نوری فیلم است. رنگ فیلمهای نازک توسط نور منعکس شده ایجاد میشود، بنابراین دو جنبه باید در نظر گرفته شود، یعنی رنگ ذاتی ایجاد شده توسط ویژگیهای جذب ...ادامه مطلب -
معرفی اصل PVD
مقدمه: در دنیای مهندسی سطوح پیشرفته، رسوب فیزیکی بخار (PVD) به عنوان روشی پرکاربرد برای افزایش عملکرد و دوام مواد مختلف ظهور کرده است. آیا تا به حال از خود پرسیدهاید که این تکنیک پیشرفته چگونه کار میکند؟ امروز، ما به بررسی مکانیک پیچیده رسوب فیزیکی بخار (PVD) میپردازیم...ادامه مطلب -
فناوری پوشش نوری: جلوههای بصری پیشرفته
در دنیای پرشتاب امروز که محتوای بصری تأثیر زیادی دارد، فناوری پوشش نوری نقش مهمی در بهبود کیفیت نمایشگرهای مختلف ایفا میکند. از گوشیهای هوشمند گرفته تا صفحه نمایش تلویزیونها، پوششهای نوری شیوه درک و تجربه محتوای بصری ما را متحول کردهاند. ...ادامه مطلب -
بهبود پوششدهی اسپاترینگ مگنترون با منبع تغذیه تخلیه قوسی
پوششدهی با روش کندوپاش مگنترونی به صورت تخلیه تابشی، با چگالی جریان تخلیه کم و چگالی پلاسمای پایین در محفظه پوششدهی انجام میشود. این امر باعث میشود فناوری کندوپاش مگنترونی دارای معایبی مانند نیروی اتصال کم لایه نازک به زیرلایه، نرخ یونیزاسیون فلز پایین و نرخ رسوب پایین باشد...ادامه مطلب -
استفاده از تخلیه RF
1. برای پاشش و آبکاری فیلم عایق مفید است. تغییر سریع قطبیت الکترود میتواند برای پاشش مستقیم اهداف عایق برای به دست آوردن فیلمهای عایق استفاده شود. اگر از منبع تغذیه DC برای پاشش و رسوب فیلم عایق استفاده شود، فیلم عایق مانع از ورود یونهای مثبت میشود...ادامه مطلب -
مشخصات فنی پوشش تبخیر در خلاء
1. فرآیند پوششدهی تبخیر در خلاء شامل تبخیر مواد فیلم، انتقال اتمهای بخار در خلاء بالا و فرآیند هستهزایی و رشد اتمهای بخار روی سطح قطعه کار است. 2. درجه خلاء رسوب پوشش تبخیر در خلاء بالا است، به طور کلی...ادامه مطلب
