با پیشرفت مداوم اهداف «کربن دوگانه» چین، صنعت فتوولتائیک (PV) رشد بیسابقهای را تجربه میکند. فناوری پوششدهی در خلاء، به عنوان یک فرآیند کلیدی برای بهبود راندمان سلولهای خورشیدی و افزایش عملکرد دستگاه، نقش حیاتی فزایندهای را در مراحل مختلف تولید PV ایفا میکند و باعث ارتقاء صنعتی و نوآوری میشود.
پوششدهی در خلاء: «فرآیند نامرئی» پشت دستگاههای فتوولتائیک
پوششدهی در خلاء به تکنیکی برای رسوبدهی لایههای نازک روی سطح زیرلایه در شرایط خلاء، با استفاده از روشهای فیزیکی یا شیمیایی - عمدتاً PVD (رسوبدهی فیزیکی بخار) و CVD (رسوبدهی شیمیایی بخار) - اشاره دارد. در مقایسه با فرآیندهای سنتی تر، پوششدهی در خلاء یکنواختی لایه برتر، چسبندگی قوی، کنترل دقیق ضخامت و حداقل آلودگی را ارائه میدهد که آن را به گامی اساسی در تولید دستگاههای فتوولتائیک با کارایی بالا تبدیل میکند.
کاربردهای کلیدی پوششدهی در خلأ در فتوولتائیک
۱. پوششهای ضد انعکاس (AR) برای سلولهای سیلیکونی کریستالی
اعمال پوششهای ضد انعکاس روی سطح سلولهای سیلیکونی کریستالی برای افزایش جذب نور بسیار مهم است. مواد رایجی مانند نیترید سیلیکون (SiNx) معمولاً با استفاده از رسوب بخار شیمیایی تقویتشده با پلاسما (PECVD) رسوب داده میشوند که به طور مؤثر تلفات انعکاس سطح را کاهش داده و راندمان کلی سلول را افزایش میدهد.
۲. لایههای نازک اکسید رسانای شفاف (TCO)
در سلولهای خورشیدی لایه نازک، لایههای TCO مانند ITO (اکسید قلع ایندیوم) و AZO (اکسید روی آلاییده شده با آلومینیوم) به عنوان الکترودهای جلویی حیاتی عمل میکنند. این لایهها معمولاً از طریق کندوپاش مگنترون، یک فرآیند PVD که عبوردهی بالا، مقاومت ویژه کم و دوام محیطی عالی را تضمین میکند، رسوب داده میشوند.
۳. لایههای بازتابنده و مانع پشتی
ساختارهای صفحه پشتی اغلب شامل لایههای بازتابنده (مثلاً Ag، Al) و لایههای مانع (مثلاً SiOx، Al2O3) هستند که معمولاً از طریق پوشش خلاء اعمال میشوند. لایههای بازتابنده، به دام انداختن نور داخلی را افزایش میدهند، در حالی که لایههای مانع، پایداری طولانی مدت و مقاومت در برابر رطوبت و تنش حرارتی را بهبود میبخشند.
۴. رسوب لایه نازک در سلولهای خورشیدی پروسکایت
سلولهای خورشیدی پروسکایت نوظهور شامل چندین لایه - مانند لایههای انتقال، لایههای رابط و پوششهای کپسولهسازی - هستند که هر کدام نیاز به رسوبگذاری با دقت بالا و آسیب کم دارند. پوششدهی در خلاء پتانسیل بالایی را در این حوزه نشان میدهد، به ویژه برای دستیابی به لایههای یکنواخت با مساحت بزرگ که برای مقیاسپذیری تجاری حیاتی است.
روندهای صنعت و تقاضای تجهیزات
همزمان با تکامل فناوریهای فتوولتائیک به سمت سلولهای هتروجانکشن (HJT) و سلولهای پشت سر هم پروسکایت/سیلیکون، تقاضا برای لایههای فیلم پیچیدهتر و پایداری بیشتر فیلم به سرعت در حال افزایش است. در پاسخ، تولیدکنندگان تجهیزات در حال معرفی سیستمهای پیشرفتهای با توان عملیاتی بالاتر، اتوماسیون و بهرهوری انرژی - مانند سیستمهای کندوپاش مگنترون درون خطی با مساحت بزرگ و سیستمهای پوششدهی خلاء رول به رول - برای برآوردن نیازهای تولید انبوه خطوط تولید فتوولتائیک در مقیاس GW هستند.
فناوری پوشش، آینده انرژی خورشیدی را تقویت میکند
پوششدهی در خلاء نه تنها یک روش اثباتشده برای بهبود عملکرد ماژول فتوولتائیک است، بلکه یک عامل اصلی توانمندساز ساختارهای سلولی با راندمان بالا در نسل بعدی نیز میباشد. از سیلیکون کریستالی معمولی گرفته تا راهحلهای نوآورانه پروسکایت، از بهینهسازی مواد گرفته تا ادغام کامل فرآیند، فناوری پوششدهی عمیقاً با صنعت خورشیدی در هم تنیده شده است - و راه را برای آیندهای با انرژی کم کربن، سبز و با راندمان بالا هموار میکند.
-این مقاله منتشر شده توسطتولید کننده دستگاه پوشش دهی در خلاءخلاء ژنهوا.
زمان ارسال: ۱۹ ژوئن ۲۰۲۵