Sputter bidezko deposizio makinak, sputtering sistemak bezala ere ezagunak, film meheen deposizio prozesuan erabiltzen diren ekipamendu oso espezializatuak dira. Sputtering printzipioan funtzionatzen dute, eta horrek helburu-material bat energia handiko ioi edo atomoekin bonbardatzea dakar. Prozesuak atomo-jario bat kanporatzen du helburu-material batetik, eta ondoren substratu batean metatzen da film mehe bat osatzeko.
Putzuergo bidezko deposizio makinen erabilera asko zabaldu da, purutasun handiko, uniformetasun bikainako eta lodiera kontrolatuko filmak ekoizteko duten gaitasunari esker. Film horiek aplikazio zabalak dituzte mikroelektronikan, optikan, eguzki-zeluletan, biltegiratze-euskarri magnetikoetan eta beste arlo batzuetan.
Ihinztadura bidezko deposizio makinen arloan izandako azken aurrerapenek funtzionaltasun eta ezaugarri hobetuak ekarri dituzte. Aurrerapen nabarmena magnetron sputtering teknologiaren sartzea da, deposizio-tasa handiagoak eta filmaren kalitatea hobetzea ahalbidetzen duena. Berrikuntza honek hainbat material deposizioa ahalbidetzen du, besteak beste, metalak, metal oxidoak eta erdieroaleak.
Gainera, sputter bidezko deposizio makinak kontrol sistema aurreratuekin hornituta daude orain, gasaren presioa, potentzia dentsitatea, helburuaren konposizioa eta substratuaren tenperatura bezalako deposizio parametroen kontrol zehatza bermatzen dutenak. Aurrerapen hauek filmaren errendimendua hobetzen dute eta aplikazio espezifikoetara egokitutako propietateak dituzten filmak ekoiztea ahalbidetzen dute.
Gainera, nanoteknologiaren arloan etengabeko garapenak ere onura handiak ekartzen dizkie sputter bidezko deposizio makinei. Ikertzaileek makina hauek erabiltzen ari dira nanoegiturak eta nanoegituratutako estaldurak zehaztasun handiz sortzeko. Sputter bidezko deposizio makinek gai dira film meheak forma konplexuetan eta azalera handietan depositatzeko, eta horrek aproposak bihurtzen ditu nanoeskalako aplikazio ugaritarako.
Duela gutxi jakinarazi da ikerketa-erakunde ezagun bateko zientzialari talde batek sputter bidezko deposizio-makina berri bat garatu duela, film meheak zehaztasun paregabearekin depositatzeko gai dena. Punta-puntako makina honek kontrol-algoritmo aurreratuak eta magnetron-diseinu berritzailea integratzen ditu filmaren uniformetasun eta lodieraren kontrol bikaina lortzeko. Ikerketa-taldeak aurreikusten du bere makinak hurrengo belaunaldiko gailu elektronikoen eta energia biltegiratzeko sistemen fabrikazio-prozesua irauliko duela.
Funtzionaltasun hobetua duten material berriak garatzea etengabeko ahalegina da zientzialarien komunitatearentzat. Ihinztadura bidezko deposizio makinak ezinbesteko tresna bihurtu dira esplorazio honetan, propietate bereziak dituzten material berrien aurkikuntza eta sintesia erraztuz. Ikertzaileek makina hauek erabiltzen ari dira filmen hazkuntza-mekanismoak aztertzeko, propietate pertsonalizatuak dituzten materialak aztertzeko eta etorkizuneko teknologia molda dezaketen material berriak aurkitzeko.
–Artikulu hau argitaratu duhutsean estaltzeko makina fabrikatzaileaGuangdong Zhenhua
Argitaratze data: 2023ko urriaren 30a