3. Influencia de la temperatura del sustrato
La temperatura del sustrato es una condición importante para el crecimiento de la membrana. Proporciona energía adicional a los átomos o moléculas de la membrana y afecta principalmente a su estructura, coeficiente de aglutinación, coeficiente de expansión y densidad de agregación. La reflexión macroscópica en el índice de refracción de la película, la dispersión, la tensión, la adhesión, la dureza y la insolubilidad variarán considerablemente debido a la diferente temperatura del sustrato.
(1) Sustrato frío: generalmente se utiliza para la evaporación de la película metálica.
(2) Ventajas de la alta temperatura:
① Las moléculas de gas residuales adsorbidas en la superficie del sustrato se eliminan para aumentar la fuerza de unión entre el sustrato y las moléculas depositadas;
(2) Promover la transformación de la adsorción física en quimisorción de la capa de película, mejorar la interacción entre moléculas, hacer que la película sea más firme, aumentar la adhesión y mejorar la resistencia mecánica;
③ Reduce la diferencia entre la temperatura de recristalización molecular del vapor y la temperatura del sustrato, mejora la densidad de la capa de película, aumenta la dureza de la capa de película para eliminar la tensión interna.
(3) La desventaja de una temperatura demasiado alta: la estructura de la capa de película cambia o el material de la película se descompone.
4. Efectos del bombardeo de iones
Bombardeo posterior al recubrimiento: mejora la densidad de agregación de la película, mejora la reacción química, aumenta el índice de refracción de la película de óxido, la resistencia mecánica y la adhesión. Aumenta el umbral de daño por luz.
5. La influencia del material del sustrato
(1) Los diferentes coeficientes de expansión del material del sustrato provocarán diferentes tensiones térmicas en la película;
(2) La diferente afinidad química afectará la adhesión y firmeza de la película;
(3) La rugosidad y los defectos del sustrato son las principales fuentes de dispersión de la película delgada.
6. Impacto de la limpieza del sustrato
Los residuos de suciedad y detergente en la superficie del sustrato provocarán: (1) mala adhesión de la película al sustrato; ② La absorción de dispersión aumenta, la capacidad antiláser es deficiente; ③ Bajo rendimiento de transmisión de luz.
La composición química (pureza y tipos de impurezas), el estado físico (polvo o bloque) y el pretratamiento (sinterización al vacío o forjado) del material de la película afectarán la estructura y el rendimiento de la película.
8. Influencia del método de evaporación
La energía cinética inicial proporcionada por los diferentes métodos de evaporación para vaporizar moléculas y átomos es muy diferente, lo que genera una gran diferencia en la estructura de la película, que se manifiesta como la diferencia en el índice de refracción, la dispersión y la adhesión.
9. Influencia del ángulo de incidencia del vapor
El ángulo de incidencia de vapor se refiere al ángulo entre la dirección de la radiación molecular del vapor y la normal a la superficie del sustrato recubierto. Este ángulo afecta las características de crecimiento y la densidad de agregación de la película, y tiene una gran influencia en el índice de refracción y las características de dispersión. Para obtener películas de alta calidad, es necesario controlar el ángulo de emisión de las moléculas de vapor del material, que generalmente debe limitarse a 30°.
10. Efectos del tratamiento de horneado
El tratamiento térmico de la película en la atmósfera favorece la liberación de tensiones y la migración térmica de las moléculas de gas ambiental y las moléculas de la película, y puede hacer que la estructura de la película se recombine, por lo que tiene una gran influencia en el índice de refracción, la tensión y la dureza de la película.
Hora de publicación: 29 de marzo de 2024