1. Kroma celo Kromo kiel ŝprucfilma materialo ne nur facile kombiniĝas kun substrato kun alta adhero, sed ankaŭ kromo kaj oksido por generi CrO3-filmon, ĝiaj mekanikaj ecoj, acida rezisto, termika stabileco estas pli bonaj. Krome, kromo en la nekompleta oksidiĝa stato ankaŭ povas generi malfortan sorban filmon. Kromo kun pureco de pli ol 98% estas raportita esti farita en rektangulajn celojn aŭ cilindrajn kromajn celojn. Krome, la teknologio uzi la sintran metodon por fari kromajn rektangulajn celojn ankaŭ estas matura.
2. Preparado de ITO-celo. Antaŭe, oni kutime uzis In-Sn-alojajn materialojn por fari celojn, kaj poste tra la tega procezo per oksigeno, por generi ITO-filmon. Ĉi tiu metodo malfacile kontrolas la reakcian gason kaj havas malbonan reprodukteblecon. Tial, en la lastaj jaroj, ĝi estis anstataŭigita per ITO-sintrado de celo. La tipa procezo de ITO-celmaterialo estas laŭ la kvalita proporcio. Per la pilkmuelado, la plato estas plene miksita, poste aldonita speciala organika pulvora kompozita agento miksas ĝin en la deziratan formon, kaj per prema kompaktigo, kaj poste la plato estas metita en aeron je hejta rapideco de 100 ℃/h ĝis 1600 ℃ post 1 horo da tenado, kaj poste malvarmiga rapideco de 100 ℃/h ĝis ĉambra temperaturo. Malvarmiga rapideco de 100 ℃/h ĝis ĉambra temperaturo kaj farita. Dum farado de celoj, la cela ebeno devas esti polurita, por eviti varmajn punktojn dum la ŝprucprocezo.
3. Oro kaj oraj alojoj, oro, kun ĉarma brilo kaj bona korodrezisto, estas idealaj dekoraciaj surfacaj tegaĵoj. La antaŭe uzata malseka tegaĵmetodo havas malgrandan filmadheron, malaltan forton, malbonan abrazioreziston, kaj ankaŭ problemojn pri poluado de rublikvaĵoj, tial ĝi estas neeviteble anstataŭigita per seka tegaĵo. La celspecoj inkluzivas ebenajn celojn, lokajn kompozitajn celojn, tubajn celojn, lokajn kompozitajn tubajn celojn, ktp. Ĝia preparmetodo estas ĉefe per vakua fandado, piklado, malvarma laminado, kalcinado, fajna laminado, tondado, surfaca purigado, malvarma laminado de kompozitaj pakaĵoj kaj serio da procezoj, kiel ekzemple la preparado. Ĉi tiu teknologio pasis la taksadon en Ĉinio, donante bonajn rezultojn.
4. Magneta materiala celo Magneta materiala celo estas ĉefe uzata por tegi maldikajn filmajn magnetajn kapojn, maldikajn filmajn diskojn kaj aliajn magnetajn maldikajn filmajn aparatojn. Pro la uzo de la kontinukurenta magnetrona ŝprucmetodo por magnetaj materialoj, magnetrona ŝprucmetodo estas pli malfacila. Tial, komputilaj komputilaj celoj kun tiel nomata "interspaco-celo" estas uzataj por la preparado de tiaj celoj. La principo estas eltranĉi multajn interspacojn sur la surfaco de la cela materialo, por ke la magneta sistemo povu esti generita sur la surfaco de la cela materiala elfluanta magneta kampo, tiel ke la cela surfaco povas formi ortogonalan magnetan kampon kaj atingi la celon de magnetrona ŝprucfilmo. Oni diras, ke la dikeco de ĉi tiu cela materialo povas atingi 20 mm.
–Ĉi tiu artikolo estas publikigita defabrikanto de vakuaj tegaĵmaŝinojGuangdong Zhenhua
Afiŝtempo: 24-a de januaro 2024