3. Influo de substrata temperaturo
Substrata temperaturo estas unu el la gravaj kondiĉoj por membrana kresko. Ĝi provizas plian energian aldonon al la membranaj atomoj aŭ molekuloj, kaj ĉefe influas la membranan strukturon, aglutinan koeficienton, ekspansian koeficienton kaj agregan densecon. La makroskopa reflekto en la filmo, refrakta indico, disĵeto, streĉo, adhero, malmoleco kaj nesolvebleco estos tre malsamaj pro la malsama substrata temperaturo.
(1) Malvarma substrato: ĝenerale uzata por vaporiĝo de metala filmo.
(2) Avantaĝoj de alta temperaturo:
① La restaj gasmolekuloj adsorbitaj sur la substrata surfaco estas forigitaj por pliigi la ligforton inter la substrato kaj la deponitaj molekuloj;
(2) Antaŭenigi la transformon de fizika adsorbado al kemisorbado de la filmotavolo, plibonigi la interagadon inter molekuloj, igi la filmon densa, pliigi la adheron kaj plibonigi la mekanikan forton;
③ Redukti la diferencon inter la temperaturo de la vapora molekula rekristaliĝo kaj la temperaturo de la substrato, plibonigi la densecon de la filmtavolo, pliigi la malmolecon de la filmtavolo por forigi internan streĉon.
(3) La malavantaĝo de tro alta temperaturo: la strukturo de la filmtavolo ŝanĝiĝas aŭ la filmmaterialo putriĝas.
4. Efikoj de jona bombado
Bombardado post tegaĵo: plibonigas la agregaĵdensecon de la filmo, plifortigas la kemian reakcion, pliigas la refraktan indicon de la oksida filmo, mekanikan forton kaj reziston kaj adheron. La sojlo de lumdamaĝo pliiĝas.
5. La influo de la substrata materialo
(1) Malsama ekspansia koeficiento de substrata materialo kondukos al malsama termika streĉo de filmo;
(2) Malsama kemia afineco influos la adheron kaj firmecon de la filmo;
(3) La malglateco kaj difektoj de la substrato estas la ĉefaj fontoj de disĵeto de maldika filmo.
6. Efiko de substratpurigado
Restaĵoj de malpuraĵo kaj lesivo sur la surfaco de la substrato kondukos al: (1) malbona adhero de la filmo al la substrato; ② La disĵeta sorbado pliiĝas, la kontraŭlasera kapablo estas malbona; ③ Malbona lumtransmisia agado.
La kemia konsisto (tipoj de pureco kaj malpureco), fizika stato (pulvoro aŭ bloko), kaj antaŭtraktado (vakua sintrado aŭ forĝado) de la filmmaterialo influos la strukturon kaj rendimenton de la filmo.
8. Influo de vaporiĝmetodo
La komenca kineta energio provizita per malsamaj vaporiĝmetodoj por vaporigi molekulojn kaj atomojn estas tre malsama, rezultante en granda diferenco en la strukturo de la filmo, kiu manifestiĝas kiel la diferenco en refrakta indico, disĵeto kaj adhero.
9. Influo de la angulo de vapora incidenco
La angulo de vapora incidenco rilatas al la angulo inter la direkto de la vapora molekula radiado kaj la surfaca normalo de la kovrita substrato, kiu influas la kreskokarakterizaĵojn kaj agregaĵdensecon de la filmo, kaj havas grandan influon sur la refraktan indicon kaj disĵetajn karakterizaĵojn de la filmo. Por akiri altkvalitajn filmojn, necesas kontroli la angulon de homa emisio de la vapormolekuloj de la filmmaterialo, kiu ĝenerale devus esti limigita al 30°.
10. Efikoj de bakado
La varmotraktado de la filmo en la atmosfero favoras la streĉliberigon kaj la termikan migradon de la ĉirkaŭaj gasmolekuloj kaj la filmmolekuloj, kaj povas fari la strukturon de la filmo rekombiniĝi, do ĝi havas grandan influon sur la refraktan indicon, streĉon kaj malmolecon de la filmo.
Afiŝtempo: 29-a de marto 2024