3. Influenza di a temperatura di u substratu
A temperatura di u substratu hè una di e cundizioni impurtanti per a crescita di a membrana. Fornisce un supplementu energeticu à l'atomi o molecule di a membrana, è affetta principalmente a struttura di a membrana, u coefficientu di agglutinazione, u coefficientu di espansione è a densità di aggregazione. A riflessione macroscopica in l'indice di rifrazione di u film, a dispersione, u stress, l'adesione, a durezza è l'insolubilità saranu assai diverse per via di a diversa temperatura di u substratu.
(1) Sustratu fretu: generalmente adupratu per l'evaporazione di film metallicu.
(2) Vantaghji di l'alta temperatura:
① E molecule di gas residuale adsorbite nantu à a superficia di u substratu sò eliminate per aumentà a forza di legame trà u substratu è e molecule depositate;
(2) Prumove a trasfurmazione di l'adsorbimentu fisicu in chemisorbimentu di u stratu di film, migliurà l'interazzione trà e molecule, rende u film strettu, aumentà l'adesione è migliurà a resistenza meccanica;
③ Riduce a diffarenza trà a temperatura di ricristallizazione moleculare di u vapore è a temperatura di u substratu, migliurà a densità di u stratu di film, aumentà a durezza di u stratu di film per eliminà u stress internu.
(3) U svantaghju di una temperatura troppu alta: a struttura di u stratu di film cambia o u materiale di u film si decompone.
4. Effetti di u bumbardamentu ionicu
Bombardamentu dopu a placcatura: migliurà a densità di aggregazione di u film, migliurà a reazione chimica, aumentà l'indice di rifrazione di u film d'ossidu, a resistenza meccanica è a resistenza è l'adesione. A soglia di danni da a luce aumenta.
5. L'influenza di u materiale di u substratu
(1) Un coefficientu di espansione differente di u materiale di u substratu porta à una tensione termica diversa di u film;
(2) Diverse affinità chimiche affetteranu l'adesione è a fermezza di u film;
(3) A rugosità è i difetti di u sustratu sò e principali fonti di sparghjera di film sottili.
6. Impattu di a pulizia di u substratu
I residui di terra è detergente nantu à a superficia di u sustratu portanu à: (1) una scarsa adesione di u film à u sustratu; ② L'assorbimentu di scattering aumenta, a capacità anti-laser hè scarsa; ③ Scarse prestazioni di trasmissione di a luce.
A cumpusizione chimica (tipu di purezza è impurità), u statu fisicu (polvere o bloccu) è u pretrattamentu (sinterizazione à vuoto o forgiatura) di u materiale di u film influenzeranu a struttura è e prestazioni di u film.
8. Influenza di u metudu d'evaporazione
L'energia cinetica iniziale furnita da diversi metudi d'evaporazione per vaporizà e molecule è l'atomi hè assai diversa, ciò chì risulta in una grande differenza in a struttura di u film, chì si manifesta cum'è a differenza in l'indice di rifrazione, a diffusione è l'adesione.
9. Influenza di l'angulu d'incidenza di u vapore
L'angulu d'incidenza di u vapore si riferisce à l'angulu trà a direzzione di a radiazione moleculare di u vapore è a nurmale di a superficia di u sustratu rivestitu, chì affetta e caratteristiche di crescita è a densità d'aggregazione di u filmu, è hà una grande influenza nantu à l'indice di rifrazione è e caratteristiche di scattering di u filmu. Per ottene filmi di alta qualità, hè necessariu cuntrullà l'angulu d'emissione umana di e molecule di vapore di u materiale di u filmu, chì deve generalmente esse limitatu à 30°.
10. Effetti di u trattamentu di cottura
U trattamentu termicu di u filmu in l'atmosfera hè favurevule à a liberazione di u stress è à a migrazione termica di e molecule di gas ambientali è di e molecule di u filmu, è pò fà a struttura di a ricombinazione di u filmu, dunque hà una grande influenza nantu à l'indice di rifrazione, u stress è a durezza di u filmu.
Data di publicazione: 29 di marzu di u 2024