Pagpaila sa vacuum vapor deposition, sputtering ug ion coating

Ang vacuum coating nag-una naglakip sa vacuum vapor deposition, sputtering coating ug ion coating, nga ang tanan gigamit sa pagdeposito sa nagkalain-laing mga metal ug non-metal nga mga pelikula sa ibabaw sa mga plastik nga mga bahin pinaagi sa distillation o sputtering ubos sa vacuum nga mga kondisyon, nga makakuha og usa ka nipis kaayo nga nawong taklap nga adunay talagsaon nga bentaha sa paspas nga pagpilit, apan ang presyo mas taas usab, ug ang mga matang sa metal mas taas, ug ang mga klase sa metal mas taas, ug ang mga klase sa metal mas taas. mas taas nga grado nga mga produkto.
Vacuum alisngaw deposition mao ang usa ka paagi sa pagpainit sa metal ubos sa taas nga vacuum, sa paghimo niini nga matunaw, evaporate, ug maporma ang usa ka manipis nga metal nga pelikula sa ibabaw sa sample human sa makapabugnaw, uban sa usa ka gibag-on sa 0.8-1.2 um. Gipuno niini ang gamay nga concave ug convex nga mga bahin sa ibabaw sa naporma nga produkto aron makakuha og salamin nga sama sa nawong. Sa diha nga ang vacuum alisngaw nga pagdeposito gihimo aron makakuha og reflective mirror effect o sa vacuum vaporize sa usa ka steel nga adunay ubos nga adhesion, ang ubos nga nawong kinahanglan nga adunay sapaw.

Ang sputtering kasagaran nagtumong sa magnetron sputtering, nga usa ka high-speed low-temperatura sputtering nga pamaagi. Ang proseso nanginahanglan usa ka haw-ang sa mga 1 × 10-3Torr, nga mao ang 1.3 × 10-3Pa vacuum nga estado nga puno sa inert gas argon (Ar), ug taliwala sa plastik nga substrate (anode) ug ang target nga metal (cathode) plus taas nga boltahe nga direkta nga kasamtangan, tungod sa electron excitation sa inert gas nga namugna pinaagi sa glow discharge sa plasma, ang produc nga pag-deposito sa plasma gikan sa plasma, ang mga produkto sa plasma. sila sa plastik nga substrate. Kadaghanan sa mga kinatibuk-ang metal coatings naggamit sa DC sputtering, samtang ang non-conductive ceramic nga mga materyales naggamit sa RF AC sputtering.

Ang ion coating usa ka pamaagi diin ang pag-discharge sa gas gigamit sa partially ionize ang gas o ang evaporated substance ubos sa vacuum nga kondisyon, ug ang evaporated substance o ang mga reactant niini madeposito sa substrate pinaagi sa pagpamomba sa mga gas ions o ion sa evaporated substance. Kini naglakip sa magnetron sputtering ion coating, reactive ion coating, hollow cathode discharge ion coating (hollow cathode vapor deposition method), ug multi-arc ion coating (cathode arc ion coating).

Vertical double-sided magnetron sputtering padayon nga coating sa linya
Ang lapad nga pagpadapat, mahimong magamit alang sa mga elektronikong produkto sama sa notebook shell EMI shielding layer, flat nga mga produkto, ug bisan ang tanan nga lamp cup nga mga produkto sulod sa usa ka piho nga gitas-on mahimong mahimo. Dako nga kapasidad sa pagkarga, compact clamping ug staggered clamping sa conical light cups alang sa double-sided coating, nga mahimong adunay mas dako nga loading capacity. Lig-on nga kalidad, maayo nga pagkamakanunayon sa layer sa pelikula gikan sa batch hangtod sa batch. Taas nga lebel sa automation ug ubos nga gasto sa pagtrabaho.

–Kini nga artikulo gipagawas nitiggama sa vacuum coating machineGuangdong Zhenhua