CVD-tegnologie is gebaseer op 'n chemiese reaksie. Die reaksie waarin die reaktante in 'n gasvormige toestand is en een van die produkte in 'n vaste toestand is, word gewoonlik na verwys as 'n CVD-reaksie, daarom moet die chemiese reaksiestelsel aan die volgende drie voorwaardes voldoen.
(1) By die afsettingstemperatuur moet die reaktante 'n voldoende hoë dampdruk hê. As die reaktante almal gasvormig is by kamertemperatuur, is die afsettingsapparaat relatief eenvoudig. As die reaktante by kamertemperatuur baie klein is, moet dit verhit word om dit vlugtig te maak, en soms moet die draergas gebruik word om dit na die reaksiekamer te bring.
(2) Van die reaksieprodukte moet alle stowwe in die gasvormige toestand wees, behalwe vir die verlangde neerslag, wat in die vaste toestand is.
(3) Die dampdruk van die neergesette film moet laag genoeg wees om te verseker dat die neergesette film stewig aan 'n substraat met 'n sekere neerslagtemperatuur tydens die neerslagreaksie geheg is. Die dampdruk van die substraatmateriaal by die neerslagtemperatuur moet ook laag genoeg wees.
Die afsettingsreaktante word in die volgende drie hooftoestande verdeel.
(1) Gasvormige toestand. Bronmateriale wat gasvormig is by kamertemperatuur, soos metaan, koolstofdioksied, ammoniak, chloor, ens., wat die beste geskik is vir chemiese dampafsetting, en waarvoor die vloeitempo maklik gereguleer kan word.
(2) Vloeistof. Sommige reaksiestowwe by kamertemperatuur of effens hoër temperatuur, met 'n hoë dampdruk, soos TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3, ens., kan gebruik word om die gas (soos H2, N2, Ar) deur die oppervlak van die vloeistof of die vloeistof binne die borrel te dra, en dan die versadigde dampe van die stof na die ateljee te dra.
(3) Vastetoestand. In die afwesigheid van 'n geskikte gasvormige of vloeibare bron, kan slegs vastetoestand-grondstowwe gebruik word. Sommige elemente of hul verbindings in honderde grade het aansienlike dampdruk, soos TaCl5, Nbcl5, ZrCl4, ens., kan na die ateljee gedra word deur die draergas wat in die filmlaag neergelê word, te gebruik.
Die meer algemene situasietipe vind plaas deur 'n sekere gas en die bronmateriaal, gas-vastestof of gas-vloeistof-reaksie, wat die vorming van toepaslike gasvormige komponente na die ateljee-aflewering veroorsaak. Byvoorbeeld, HCl-gas en metaal Ga reageer om die gasvormige komponent GaCl te vorm, wat in die vorm van GaCl na die ateljee vervoer word.
–Hierdie artikel word vrygestel deurvervaardiger van vakuumbedekkingsmasjieneGuangdong Zhenhua
Plasingstyd: 16 Nov 2023